平面研磨装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-189916
公開番号（公開出願番号）：特開2001-009699
出願日： 1999年07月05日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】【課題】ウェーハを平坦に、かつ所望量研磨することができる平面研磨装置を提供する。【解決手段】数種類の材料が積層されたウェーハ10の研磨の際中に、プラテン11に設けられた単数の光透過窓WTを介して。ウェーハ10の研磨面からの反射光量を、光検出器29で常時、また複数個の光透過窓Wnがウェーハ10の下面を通過中には複数個の光学式センサSnでそれぞれ検出する。それら光量に基づいて、ヘッド部14内部に環状領域毎に設けられた複数個の加圧室の押圧力を制御し、環状領域毎にウェーハ10を押付ける力を適当に設定しながら研磨する。

請求項（抜粋）：

上面に研磨パッドが貼り付けられたプラテンと、その上方にヘッド部とを有し、前記プラテンとヘッド部との間に研磨対象物を挟んで所定の押圧を加えながら前記プラテンとヘッド部が回転し、前記研磨パッドと研磨対象物の間にスラリーを介在させて研磨対象物を研磨し、前記ヘッド部が研磨対象物を保持する面に、加圧流体が噴出可能で、前記ヘッド部に分割された複数の同心状の環状の領域に複数の開口孔を設け、前記領域毎に加圧流体を供給可能とし、前記プラテンには上面に貼り付けられた研磨パッドとともに貫通する単数の光透過窓を有し、前記光透過窓には光の透過型材料がはめ込まれ、前記プラテンの下面には、前記単数の光透過窓の周辺とプラテンの回転中心とに反射ミラーが取り付けられ、前記プラテンの回転中心の下面に取り付けられた反射ミラーの下方には光源と光検出器とを配する平面研磨装置において、前記光源から発せられた光が前記2個の反射ミラーを介して前記単数の光透過窓を通して研磨対象物に投光され、研磨対象物からの反射光となり前述の同経路で戻る光を受光する前記光検出器の受光量に応じて、前記領域毎に加圧流体の圧力がそれぞれ変更できる制御部を有することを特徴とする平面研磨装置。

IPC (4件)：

B24B 37/00 , B24B 37/04 , B24B 49/12 , H01L 21/304 622

FI (4件)：

B24B 37/00 B , B24B 37/04 K , B24B 49/12 , H01L 21/304 622 K

Fターム (22件)：

3C034AA13 , 3C034AA17 , 3C034BB93 , 3C034CA02 , 3C034CA22 , 3C034CB04 , 3C034DD10 , 3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058AA12 , 3C058AC02 , 3C058AC04 , 3C058BA01 , 3C058BA02 , 3C058BA07 , 3C058BA09 , 3C058BA14 , 3C058BB01 , 3C058BB04 , 3C058BB09 , 3C058CB01 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (8件)

化学的機械的研磨方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-271860 出願人：エルエスアイロジックコーポレーション
ポリッシング装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-065315 出願人：株式会社荏原製作所
研磨終点検出方法、研磨終点検出装置及びこれを有する研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-216075 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る