特許
J-GLOBAL ID：201803019423673697
GST用CMPスラリー
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 小林 良博
, 出野 知
, 永坂 友康
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-523137
特許番号：特許第6251262号
出願日： 2013年07月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ゲルマニウム-アンチモン-テルル(GST)合金研磨用の水性の化学機械研磨(CMP)組成物であって、
(a)コロイド状シリカ研磨剤およびセリア研磨剤からなる群から選択される粒子状研磨剤;
(b)水溶性の界面活性剤;
(c)アミノ酸腐食防止剤;および
(d)錯化剤;
を含む水性担体を含んでなり、
前記界面活性剤は、前記研磨剤が正のゼータ電位を有する場合には、前記界面活性剤はカチオン性材料を含み、そして前記粒子状研磨剤が負のゼータ電位を有する場合には、前記界面活性剤がアニオン性材料、ノニオン性材料、もしくはそれらの組合わせを含むように、前記粒子状研磨剤のゼータ電位を基に選択され、
前記粒子状研磨剤が、セリアまたは、正のゼータ電位を有する、アミノシラン表面処理されたコロイド状シリカを含み、かつ前記水溶性の界面活性剤が、ポリ(メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム)ハライドを含む、
組成物。
IPC (4件)：
C09K 3/14 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 201 2.01)
, C09G 1/02 ( 200 6.01)
C09K 3/14 550 D
, H01L 21/304 622 D
, B24B 37/00 H
, C09K 3/14 550 Z
, C09G 1/02
, H01L 21/304 622 B
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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