特許

J-GLOBAL ID：201803019516619102

処理装置、処理システム、撮像装置、処理方法、プログラム、および記録媒体

発明者： 井上 智暁 ,  井田 義明 ,  楠美 祐一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 藤元 亮輔 ,  水本 敦也 ,  平山 倫也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-138302
公開番号（公開出願番号）：特開2018-009858
出願日： 2016年07月13日
公開日（公表日）： 2018年01月18日
要約：

【課題】照度差ステレオ法に適するように光源の発光量を制御可能であり、高精度に面法線を算出可能な処理装置、処理システム、撮像装置、処理方法、プログラム、および記録媒体を提供すること。【解決手段】互いに位置の異なる3つ以上の光源からの光を被写体に順次照射して3つ以上の画像を取得させる処理装置であって、3つ以上の光源を個別に予備発光させて取得される被写体からの反射光の測光値に基づいて、3つ以上の画像を取得する際の各光源の発光量を制御する制御部を有する。【選択図】図2B

請求項（抜粋）：

互いに位置の異なる3つ以上の光源からの光を被写体に順次照射して3つ以上の画像を取得させる処理装置であって、 前記3つ以上の光源を個別に予備発光させて取得される前記被写体からの反射光の測光値に基づいて、前記3つ以上の画像を取得する際の各光源の発光量を制御する制御部を有することを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

G01B 11/26 ,  H04N 5/232 ,  H04N 5/238 ,  G03B 15/05 ,  G03B 15/03

FI (5件)：

G01B11/26 H ,  H04N5/232 Z ,  H04N5/238 Z ,  G03B15/05 ,  G03B15/03 W

Fターム (23件)：

2F065AA35 ,  2F065AA37 ,  2F065BB05 ,  2F065DD04 ,  2F065EE03 ,  2F065FF04 ,  2F065GG07 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ31 ,  2H053AD23 ,  2H053CA15 ,  5C122DA13 ,  5C122EA12 ,  5C122FA11 ,  5C122FF23 ,  5C122FH01 ,  5C122GG17 ,  5C122GG26 ,  5C122HA88

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 物体表面法線ベクトルマップ作成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-298052   出願人：JUKI株式会社
• 撮像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-183517   出願人：株式会社ニコン
• 皮膚状態の三次元画像生成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-125033   出願人：株式会社資生堂, 小澤慎治
• 特許第3880148号