特許

J-GLOBAL ID：201803021079406085

二元細孔酸化物の製造方法

発明者： 高橋 亮治 ,  佐藤 文哉 ,  西田 和史 ,  長谷川 俊雄 ,  二宮 航 ,  宮氣 健一
出願人/特許権者： 国立大学法人愛媛大学 ,  三菱ケミカル株式会社
代理人 (2件)： 宮崎 昭夫 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-117761
公開番号（公開出願番号）：特開2017-222529
出願日： 2016年06月14日
公開日（公表日）： 2017年12月21日
要約：

【課題】二元細孔酸化物を製造するにあたり、非水溶性ポリマーを使用可能にし、もって使用可能なポリマーの選択幅を拡大し、所望のポリマー原料から二元細孔酸化物を製造することを可能とする。【解決手段】ナノ細孔およびマクロ細孔を有する二元細孔酸化物の製造方法であって、非水溶性ポリマーを可溶化処理して可溶化処理したポリマーを得る工程と、水、可溶化処理したポリマー、シリカ源および酸触媒を含むゾル液を調製するゾル液調製工程と、該ゾル液をゲル化させるゲル化工程と、ゲル化工程から得られるゲルを乾燥する乾燥工程とを含む、二元細孔酸化物の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ナノ細孔およびマクロ細孔を有する二元細孔酸化物の製造方法であって、 非水溶性ポリマーを可溶化処理して可溶化処理したポリマーを得る工程と、 水、可溶化処理したポリマー、シリカ源および酸触媒を含むゾル液を調製するゾル液調製工程と、 該ゾル液をゲル化させるゲル化工程と、 ゲル化工程から得られるゲルを乾燥する乾燥工程と を含む、二元細孔酸化物の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 33/16

FI (1件)：

C01B33/16

Fターム (21件)：

4G072AA25 ,  4G072AA35 ,  4G072BB15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ15 ,  4G072JJ16 ,  4G072JJ30 ,  4G072JJ42 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072KK07 ,  4G072KK17 ,  4G072LL11 ,  4G072MM31 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072RR20 ,  4G072UU13 ,  4G072UU15 ,  4G072UU17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 二元細孔シリカ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-027064   出願人：株式会社トクヤマ
• マクロ孔及びミクロ孔が分散したシリカ多孔体及び製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-079480   出願人：新技術事業団, 株式会社トクヤマ

引用文献：

出願人引用 (1件)

• 二元細孔シリカ及びシリカージルコニアの熱的特性

審査官引用 (1件)

• 二元細孔シリカ及びシリカージルコニアの熱的特性