特許
J-GLOBAL ID：201803021241448234
アスタキサンチン製造のためのヘマトコッカスの培養方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-513543
公開番号（公開出願番号）：特表2018-530321
出願日： 2016年09月09日
公開日（公表日）： 2018年10月18日
要約：
基材を用意する工程、前記基材表面上にヘマトコッカスを配置する工程、並びに前記ヘマトコッカスを低光エネルギーに暴露して初期培養を行う第1段階と、その後に前記第1段階で適用されたものよりも高い光エネルギーに前記ヘマトコッカスを暴露してアスタキサンチン形成を誘導することにより前記ヘマトコッカスを引き続き培養する第2段階とを含むヘマトコッカスの2段階培養プロセスを行わずに、前記基材上に配置された前記ヘマトコッカスを培養プロセスの開始から高光強度に暴露する工程、を含み、さらに 培養された前記ヘマトコッカスを回収する工程、及び/又はアスタキサンチンを単離する工程、を所望により含む、アスタキサンチン製造のためのヘマトコッカスの培養方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材を用意する工程、
前記基材表面上にヘマトコッカスを配置する工程、並びに
前記ヘマトコッカスを低光エネルギーに暴露して初期培養を行う第1段階と、その後に前記第1段階で適用されたものよりも高い光エネルギーに前記ヘマトコッカスを暴露してアスタキサンチン形成を誘導することにより前記ヘマトコッカスを引き続き培養する第2段階とを含むヘマトコッカスの2段階培養プロセスを行わずに、前記基材上に配置された前記ヘマトコッカスを培養プロセスの開始から高光強度に暴露する工程、
を含み、さらに
培養された前記ヘマトコッカスを回収する工程、及び/又は
アスタキサンチンを単離する工程、
を所望により含む、アスタキサンチン製造のためのヘマトコッカスの培養方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (13件)：
4B064AH01
, 4B064CA08
, 4B064CC09
, 4B064DA10
, 4B064DA20
, 4B065AA83X
, 4B065AC14
, 4B065BC42
, 4B065BC48
, 4B065CA05
, 4B065CA18
, 4B065CA41
, 4B065CA52
