鹿又健作

Kanomata Kensaku

所属機関・部署：
職名：お客様担当窓口&技術営業
その他の所属（所属・部署名・職名） (1件)：

山形大学有機材料システム研究推進本部プロジェクト教員(助教)

研究分野 (3件)：プラズマ科学 , ナノバイオサイエンス , ナノ材料科学

研究キーワード (5件)：原子層堆積法の工業応用 , 脂質二分子膜 , X線光電子分光 , 赤外吸収分光 , 室温原子層堆積

競争的資金等の研究課題 (2件)：

2016 - 2019 タンパク質微粒子上の室温原子層堆積法の研究
2014 - 2016 プラズマプロセスを用いた低温原子層堆積法の研究

論文 (51件)：

Ryugo Tero, Jocelyn Min Yuan Lau, Kensaku Kanomata, Fumihiko Hirose. Controlling fluorescence quenching efficiency by graphene oxide in supported lipid bilayers using SiO₂ layer fabricated by atomic layer deposition. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SC. SC1041-SC1041
K. Saito, K. Yoshida, M. Miura, K. Kanomata, B. Ahmmad, S. Kubota, F. Hirose. Moisture barrier coating of AlN and Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> multilayer film prepared by low-temperature atomic layer deposition. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2022. 40. 6. 062410-062410
Kentaro SAITO, Kazuki YOSHIDA, Masanori MIURA, Kensaku KANOMATA, Bashir AHMMAD, Shigeru KUBOTA, Fumihiko HIROSE. Low-Temperature Deposition of Yttrium Oxide on Flexible PET Films Using Time-Separated Yttrium Precursor and Oxidizer Injections. IEICE Transactions on Electronics. 2022. E105.C. 10. 604-609
Kentaro SAITO, Kazuki YOSHIDA, Masanori MIURA, Kensaku KANOMATA, Bashir AHMMAD, Shigeru KUBOTA, Fumihiko HIROSE. Low-Temperature Atomic Layer Deposition of AlN Using Trimethyl Aluminum and Plasma Excited Ar Diluted Ammonia. IEICE Transactions on Electronics. 2022. E105.C. 10. 596-603
Takeru Saito, Kazuki Yoshida, Kentaro Saito, Masanori Miura, Kensaku Kanomata, Bashir Ahmmad, Shigeru Kubota, Fumihiko Hirose. Multiple layers of aluminum silicate and silicon dioxide deposited by room-temperature atomic layer deposition for enhanced cation sorption. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2022. 40. 4. 042406-042406

MISC (96件)：

Kazuki Yoshida, Kentaro Tokoro, Kensaku Kanomata, Masanori Miura, Kentaro Saito, Bashir Ahmmad, Shigeru Kubota, Fumihiko Hirose. Room temperature atomic layer deposition of niobium oxide using plasma excited humidified argon and its application to anticorrosion to hydrochloric acid. Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. 2019. 37. 6. 060901-060901
佐藤航代, 三浦正範, 鹿又健作, 廣瀬文彦. エレクトロスプレーを用いたナノ粒子薄膜作製とデバイス応用 (電子部品・材料). 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2019. 118. 461. 1-6
野口雄祐, 森義晴, 吉田一樹, 鹿又健作, 三浦正範, 有馬ボシールアハンマド, 廣瀬文彦. 色素増感太陽電池の表面修飾による高効率化 (電子部品・材料). 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2019. 118. 461. 27-31
齊藤俊介, 曽貝彗斗, 吉田一樹, 鹿又健作, 三浦正範, 有馬ボシールアハンマド, 廣瀬文彦. 室温原子層堆積法によるSnO2膜作製とデバイス応用 (電子部品・材料). 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2019. 118. 461. 33-36
曽貝彗斗, 齊藤俊介, 吉田一樹, 鹿又健作, 三浦正範, 有馬ボシールアハンマド, 廣瀬文彦. ナノチャネル酸化チタン薄膜トランジスタの試作と評価 (電子部品・材料). 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2019. 118. 461. 41-44

特許 (1件)：

酸化物薄膜の形成方法および装置

学歴 (3件)：

2012 - 2015 山形大学大学院理工学研究科博士後期課程電子情報工学専攻
2008 - 2010 山形大学大学院理工学研究科博士前期課程電気電子工学専攻
2004 - 2008 山形大学工学部電気電子工学科

学位 (1件)：

工学博士 (山形大学)

経歴 (7件)：

2022/06 - 現在株式会社Cool ALD お客様担当窓口&技術営業
2016/04 - 現在山形大学有機材料システム研究推進本部プロジェクト教員(助教)
2019/03 - 2022/05 株式会社Cool ALD 取締役・技術営業
2015/04 - 2016/03 独立行政法人日本学術振興会特別研究員PD
2014/04 - 2015/03 独立行政法人日本学術振興会特別研究員DC2

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所属学会 (4件)：

日本セラミックス協会 , 日本表面真空学会 , 応用物理学会 , The Electrochemical Society

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