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J-GLOBAL ID：201902212110450360   整理番号：19A2202059

シリコン技術向けのグラフェンと二次元材料

Graphene and two-dimensional materials for silicon technology

著者 (10件)： AKINWANDE Deji (Microelectronics Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. Texas at Austin, Austin, TX, USA) ,  SERNA Martha I. (Microelectronics Res. Center, Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. Texas at Austin, Austin, TX, USA) ,  HUYGHEBAERT Cedric (IMEC, Leuven, BEL) ,  WANG Ching-Hua (Dep. of Electrical Engineering, Stanford Univ., Stanford, CA, USA) ,  WONG H.-S. Philip (Dep. of Electrical Engineering, Stanford Univ., Stanford, CA, USA) ,  GOOSSENS Stijn (ICFO-Inst. Ciencies Fotoniques, Barcelona Inst. of Sci. and Technol., Castelldefels (Barcelona), Barcelona, ESP) ,  KOPPENS Frank H. L. (ICFO-Inst. Ciencies Fotoniques, Barcelona Inst. of Sci. and Technol., Castelldefels (Barcelona), Barcelona, ESP) ,  LI Lain-Jong (Corporate Res., Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), Hsinchu, TWN) ,  WONG H.-S. Philip (Corporate Res., Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC), Hsinchu, TWN) ,  KOPPENS Frank H. L. (ICREA-Institutetucio Catalana de Recerca i Estudis Avancats, Barcelona, ESP)
資料名： Nature (London)  (Nature (London))
巻： 573  号： 7775  ページ： 507-518  発行年： 2019年09月26日 
JST資料番号： D0193B  ISSN： 0028-0836  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコン半導体技術の進歩は,デバイスや配線の物理的サイズをナノメートル領域にまで縮小することによって,1960年代後半から1970年代前半のマイクロプロセッサーから,オートメーション,コンピューター,スマートフォンに至るまで,エレクトロニクスに飛躍的進歩をもたらしてきた。現在では,グラフェンやそれに関連する二次元(2D)材料によって,原子極限でのデバイスの性能がかつてないほど向上する可能性があり,2D材料とシリコンチップの相乗的な組み合わせにより異種プラットフォームが得られ,これがシリコン技術に基づいて非常に大きな可能性をもたらすと期待されている。多機能高層2Dシリコンチップの三次元モノリシック製造によって集積化が実現されており,これによってオプトエレクトロニクスやセンシングへの応用では,シリコンプラットフォームの垂直方向性と機能的多様性を利用して性能の向上が可能になっている。今回我々は,原子層材料とシリコン系ナノシステムの集積化の機会,進展,課題を概説するとともに,コンピューターへの応用とコンピューター以外への応用の見通しを検討している。Copyright Nature Japan KK 2019

シソーラス用語： マイクロプロセッサ ,  電子技術 ,  スマートフォン ,  *二次元 ,  自動化 ,  *グラフェン ,  三次元 ,  *ケイ素 ,  オプトエレクトロニクス ,  コンピュータ
準シソーラス用語： 原子層 ,  多機能 ,  シリコンチップ ,  半導体技術 ,  *二次元材料 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D) ,  ディジタル計算機ハードウェア一般  (JC04010C) ,  トランジスタ  (NC03070N)

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコン ,  グラフェン ,  二次元材料