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J-GLOBAL ID：201902213036142404   整理番号：19A0900689

EUV金属酸化物ハイブリッドフォトレジスト:高分解能パターン形成のための超小型構造【JST・京大機械翻訳】

EUV metal oxide hybrid photoresists: ultra-small structures for high-resolution patterning

著者 (7件)： Xu Hong (Cornell Univ. (United States)) ,  Yang Kou (Cornell Univ. (United States)) ,  Sakai Kazunori (Cornell Univ. (United States)) ,  Kosma Vasiliki (Cornell Univ. (United States)) ,  Kasahara Kazuki (Cornell Univ. (United States)) ,  Giannelis Emmanuel P. (Cornell Univ. (United States)) ,  Ober Christopher K. (Cornell Univ. (United States))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10583  ページ： 105831P-6  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 13.5nm放射を用いた極端紫外(EUV)リソグラフィーは次世代リソグラフィー用の最も顕著な候補の一つと考えられている。EUVレジストの主な課題は,ITRSロードマップ~1に従って,分解能,LWR(線幅粗さ)および感度要件を同時に満足することである。過去数年にわたって,著者らの主な努力はZrO_2とHfO_2ナノ粒子ベースのフォトレジストに焦点を合わせることであった。しかし,ZrとHfの両方は比較的低いEUV吸収金属~2であり,高いEUV吸収元素の集積は,EUV放射下でのリソグラフィー性能をさらに改善するためのより有望な経路であると考えられる。ここでは,小さな粒子サイズ,スピンコーティング溶媒への良好な溶解度,光酸発生器または光ラジカル発生器を組み込むことによる良好な膜形成の可能性とパターン形成を有する新しい酸化亜鉛ベースのナノ粒子フォトレジストを実証した。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： リソグラフィー ,  *パターン形成 ,  粒度 ,  ラジカル ,  *高分解能 ,  スピンコーティング ,  *フォトレジスト ,  溶解度 ,  酸化亜鉛 ,  ジルコニウム ,  ハフニウム ,  極端紫外線 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： 薄膜形成 ,  EUVレジスト , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： EUV ,  金属酸化物 ,  フォトレジスト ,  高分解能 ,  パターン形成