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J-GLOBAL ID:201902213426813030   整理番号:19A0610729

高感度電子線ホログラフィーによるGaN系半導体のドーパント濃度分布の観察

Observation of Dopant Concentration in GaN Semiconductor by High Sensitivity Electron Holography
著者 (11件):
資料名:
巻: 58  号:ページ: 103(J-STAGE)  発行年: 2019年 
JST資料番号: F0163A  ISSN: 1340-2625  CODEN: MTERE2  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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・窒化ガリウム(GaN)の特性を支配するドーパントの濃度分布を高感度電子線ホログラフィーを用いて観察した事例を紹介。
・観察を行なったサンプルはn-GaN基板上に5×1016~4×1019(atoms/cm3)ドーパント濃度を段階的に変化させた構造をもつもので,このサンプルについてのホログラム再生位相像が濃度分布に対応する位相変化を示すことを確認。
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分類 (2件):
分類
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固体デバイス計測・試験・信頼性  ,  粒子光学一般 

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