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J-GLOBAL ID:201902216013603723   整理番号:19A0737887

大気圧化学蒸着により成長させたZnO膜の構造と光学特性に及ぼすNH_3流の影響【JST・京大機械翻訳】

Effects of NH3 flow on structural and optical properties of ZnO films grown by atmospheric-pressure chemical vapor deposition
著者 (3件):
資料名:
巻: 675  ページ: 50-58  発行年: 2019年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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原料として亜鉛,水およびアンモニア(NH_3)を用いた大気圧化学蒸着によりr面サファイア基板上に成長させた窒素(N)をドープした酸化亜鉛(ZnO)膜の構造および光学特性を研究した。少量のNH_3流が膜配向と表面形態の改善に有効であることが分かった。成長させた未ドープおよびNドープZnO膜の光ルミネセンス(PL)スペクトルは,~376nmおよび~386nmに2つのピークをもつ近バンド端発光および~540nmにピークをもつ緑色バンド(GB)発光から成っていた。異なるNH_3流量で成長させた成長したNドープ膜のPLとPL励起(PLE)測定は,386nmでのピークの出現とGB発光の励起過程の両方に対するNおよび/または水素(H)関連欠陥の寄与の可能性を示した。PLと光音響(PA)スペクトルの間の比較は,酸素サイト(N_O)を占めるN原子またはその複雑な欠陥が,バンドギャップ内PA吸収の原因となる非放射中心に対する最も隠蔽可能な候補であることを示した。異なる条件下でのポストアニーリング後,GB発光の他に~720nmに赤色バンド(RB)発光が現れた。アニールされた膜で観測されたRBとGBの両方の発光はバンド間(バンド間)と自由励起子遷移によって効果的に励起されることが分かった。アニーリング条件の違いに関係なく,RB発光に対するすべてのPLEスペクトルは460nmから680nmに広がる弱い励起バンドを示し,おそらくN_Oアクセプタによる深い不純物準位の形成を示唆した。また,X線光電子分光法により,N_O深いアクセプタが膜中に形成されたが,H原子により不動態化され,H関連ドナーにより補償され,酸素部位[(N_2)_O]二重ドナーを置換する窒素分子により補償されることを確認した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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酸化物薄膜 
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