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J-GLOBAL ID：201902217959476143   整理番号：19A0030240

マイクロ構造を作製するための大面積イオンビームミリング工程のための大型RFバケットイオン源の開発【JST・京大機械翻訳】

Development of large RF bucket ion sources for large area ion beam milling processes to fabricate micro-structures

著者 (2件)： Tanaka Masanobu (Innovation & Collaboration Center, Kumamoto University, 2-39-1, Kurokami, Chuo-ku, Kumamoto 860-8555, Japan) ,  Ookawa Hiroo (Y.A.C. BEAM Co., Ltd. 1-1-1 Kokubu, Hitachi-Shi, Ibaraki 316-0035, Japan)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 2011  号： 1  ページ： 090025-090025-3  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マルチカスプ磁石を装備した新しいRFイオン源を,フィラメントのないイオンビーム粉砕システムのより高い利用可能性と酸素のような活性イオン種に対して開発した。RFバケットイオン源と呼ぶ。マルチカスプ磁石は,放電室周辺のFaraday遮蔽上のスリット間のRFコイル内部にプラズマを閉じ込めるようにセットされている。この構成は側壁のプラズマ損失とスパッタリングを低減した。これは,保守間の長い利用可能な操作時間で高スループットプロセスを可能にし,RFパワーのプラズマへの誘導結合における妨害を引き起こさなかった。RFバケット源は,直径300mmのビーム抽出領域を有する大面積イオンビームを生成した。Arイオンビーム電流密度は,0.9Aのビーム電流で1mA/cm2以上である。マイクロ構造の製造プロセスのために,商用工業工場で停止することなく,1日当たり24時間連続的に作動するAr+イオンビーム粉砕システムにRFバケットイオン収着装置を設置した。48.8nm/分の平均粉砕速度での±0.47%のSiO_2粉砕均一性を,最適条件と格子構造で得た。また,イオン源はO,Fなどの活性イオン種を生成することができ,他の新しい応用プロセスに寄与することが期待される。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 電磁結合 ,  *イオン源 ,  *イオンビーム ,  生産工程 ,  保全 ,  放電 ,  酸素 ,  最適条件 ,  磁石 ,  プラズマ ,  収着 ,  フィラメント
準シソーラス用語： ビーム電流 ,  *大面積 ,  *ミクロ構造 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 核融合装置  (BJ02083Z) ,  電子源,イオン源  (BD02020U)

タイトルに関連する用語 (8件)： マイクロ構造 ,  作製 ,  大面積 ,  大型 ,  RF ,  バケット ,  イオン源 ,  開発