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J-GLOBAL ID：201902218899536656   整理番号：19A2094909

高速でフォトリソグラフィーを用いない作製による多層パターンを持つ防水,全方向伸縮可能エレクトロニクス【JST・京大機械翻訳】

Waterproof, Omnidirectionally Stretchable Electronics with Multilayer Patterns Via Rapid, Photolithography-Free Fabrication

著者 (4件)： Xu Renxiao (Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, USA) ,  He Peisheng (Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, USA) ,  Sanghadasa Mohan (Aviation and Missile Research, Development, and Engineering Center, US Army, USA) ,  Lin Liwei (Department of Mechanical Engineering, University of California, Berkeley, USA)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： TRANSDUCERS & EUROSENSORS XXXIII  ページ： 2460-2463  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 複雑な幾何学的構成を持つ拡張可能なエレクトロニクスシステムとパターンの多重層がフォトリソグラフィーステップを必要とせずに急速に作製できることを初めて報告した。代わりに,デスクトップサイズのビニルカッターとCO2レーザカッターを,提案したプロセスにおけるパターン形成ツールとして用いた。著者らの方法の能力を実証するために,異なるパターンを持つ4つの積層構成層を有する防水,全方向延伸可能なマイクロスーパーキャパシタパッチを,デバイス当たり50分以内に作製した。このソフトで準拠アントなパッチは,水中での>16時間の浸漬後,および/または様々なタイプの極端な折畳みおよび伸張変形の後に,完全な電気化学的性能を維持することができる。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 浸漬 ,  延伸 ,  パターン形成 ,  カッタ ,  *多層 ,  *電子技術 ,  *フォトリソグラフィー ,  折畳み ,  炭酸ガスレーザ ,  *高速度
準シソーラス用語： 電気化学的性能 ,  スーパーキャパシタ ,  デスクトップ ,  *全方向 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  アンテナ  (ND06000M)

タイトルに関連する用語 (7件)： フォトリソグラフィー ,  作製 ,  多層 ,  防水 ,  全方向 ,  伸縮可能 ,  エレクトロニクス