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J-GLOBAL ID：201902222280497579   整理番号：19A0013807

SiO_2マイクロカンチレバーの共振周波数に及ぼすアニーリング誘起残留応力の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of annealing induced residual stress on the resonance frequency of SiO₂ microcantilevers

著者 (3件)： Balasubramanian S. (Surface and Nano science Division, MSG, IGCAR, HBNI, Kalpakkam - 603 102, India) ,  Prabakar K. (Surface and Nano science Division, MSG, IGCAR, HBNI, Kalpakkam - 603 102, India) ,  Tripura Sundari S. (Surface and Nano science Division, MSG, IGCAR, HBNI, Kalpakkam - 603 102, India)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 1951  号： 1  ページ： 030018-030018-3  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,それらの共振周波数に及ぼすSiO_2マイクロカンチレバー(MCs)のアニーリングにより誘起された残留応力の影響を研究した。種々の寸法のSiO_2mcsを直接レーザライターと湿式化学エッチング法を用いて作製し,酸素雰囲気中800°C,ポスト放出においてアニールした。残留応力は,3D光学顕微鏡を用いて測定したMCの偏向プロファイルから,アニーリング前後に推定した。MCの共振周波数をナノ振動分析器を用いて測定し,アニーリング後に変化することを見出した。さらに,周波数シフトはMC寸法に依存することが分かった。これは,アニーリングと関連する剛性変化により誘起された大きな応力勾配に起因する。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 剛性 ,  光学顕微鏡 ,  *共振周波数 ,  *残留応力 ,  周波数シフト ,  ウェットエッチング ,  三次元 ,  偏向 ,  *焼なまし ,  レーザ
準シソーラス用語： 応力勾配 ,  酸素雰囲気 ,  *マイクロカンチレバー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (5件)： マイクロカンチレバー ,  共振周波数 ,  アニーリング ,  誘起 ,  残留応力