文献

J-GLOBAL ID：201902224461736368   整理番号：19A1798868

非晶質In-Zn-O薄膜トランジスタのための高信頼性低温(180°C)溶液処理不動態化

Highly reliable low-temperature (180 °C) solution-processed passivation for amorphous In-Zn-O thin-film transistors

著者 (7件)： SAFARUDDIN Aimi Syairah (Nara Inst. of Sci. and Technol., Nara, JPN) ,  BERMUNDO Juan Paolo S. (Nara Inst. of Sci. and Technol., Nara, JPN) ,  YOSHIDA Naofumi (Merck Performance Materials Ltd., Shizuoka, JPN) ,  NONAKA Toshiaki (Merck Performance Materials Ltd., Shizuoka, JPN) ,  FUJII Mami N. (Nara Inst. of Sci. and Technol., Nara, JPN) ,  ISHIKAWA Yasuaki (Nara Inst. of Sci. and Technol., Nara, JPN) ,  URAOKA Yukiharu (Nara Inst. of Sci. and Technol., Nara, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 12  号： 6  ページ： 064002.1-064002.5  発行年： 2019年06月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は,溶液処理非晶質InZnO(a-IZO)薄膜トランジスタ(TFT)の電気的性能と安定性を大幅に改善する,ポリシルセスキオキサン(PSQ)に基づく低温溶液処理不動態化材料を提示する。PSQ不動態化TFTは正バイアス応力試験後に,2.8Vの最小閾値電圧シフトで6.02cm²V^-1s^-1の最大移動度を示した。PSQ不動態化からの水素関連イオンは酸素空孔を不動態化し,a-IZOチャネルにおけるパーコレーション経路を改善することを示した。さらに,PSQ不動態化TFTは湿度ストレスを受けた後に最小の変化を示した。これらの結果は,大気効果に対する有効な障壁として低温PSQ不動態化の能力を実証した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 非晶質半導体 ,  *インジウム化合物 ,  *亜鉛化合物 ,  *金属酸化物 ,  *薄膜トランジスタ ,  *信頼性 ,  低温 ,  処理 ,  不動態化 ,  電気的性質 ,  安定性 ,  ポリシルセスキオキサン ,  負荷試験 ,  電圧変動 ,  空格子点 ,  パーコレーション
準シソーラス用語： *酸化インジウム亜鉛 ,  *高信頼性 ,  溶液処理 ,  表面不動態化 ,  電気的特性 ,  ストレス試験 ,  閾値電圧シフト ,  酸素空孔

分類 (1件)： トランジスタ  (NC03070N)

引用文献 (27件)：

• E. Fortunato, P. Barquinha, and R. Martins, Adv. Mater. 24, 2945 (2012).
• J.-S. Park, J. K. Jeong, H.-J. Chung, Y.-G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. 92, 072104 (2008).
• Y. S. Rim, W. H. Jeong, D. L. Kim, H. S. Lim, K. M. Kim, and H. J. Kim, J. Mater. Chem. 22, 12491 (2012).
• X. Yu et al., Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 112, 3217 (2015).
• D. C. Corsino, J. P. S. Bermundo, M. N. Fujii, K. Takahashi, Y. Ishikawa, and Y. Uraoka, Appl. Phys. Exp. 11, 061103 (2018).

タイトルに関連する用語 (7件)： 非晶質 ,  Zn ,  薄膜トランジスタ ,  高信頼性 ,  低温 ,  溶液処理 ,  不動態化