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J-GLOBAL ID：201902226993248664   整理番号：19A1456984

ニッケル-グラフェン界面によるヘリウム関連クラスタの放出 原子論的研究【JST・京大機械翻訳】

Release of helium-related clusters through a nickel-graphene interface: An atomistic study

著者 (10件)： Huang Hai (Department of Nuclear Science & Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Huang Hai (Department of Nuclear Engineering and Radiological Science, University of Michigan, Ann Arbor, MI 48109, USA) ,  Tang Xiaobin (Department of Nuclear Science & Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Tang Xiaobin (Jiangsu Engineering Laboratory of Nuclear Energy Equipment Materials, Nanjing 210016, China) ,  Gao Fei (Department of Nuclear Engineering and Radiological Science, University of Michigan, Ann Arbor, MI 48109, USA) ,  Chen Feida (Department of Nuclear Science & Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Chen Feida (Jiangsu Engineering Laboratory of Nuclear Energy Equipment Materials, Nanjing 210016, China) ,  Ge Guojia (Department of Nuclear Science & Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Yan Yuanyuan (Department of Nuclear Science & Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Peng Qing (Department of Nuclear Engineering and Radiological Science, University of Michigan, Ann Arbor, MI 48109, USA)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 487  ページ： 218-227  発行年： 2019年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高密度界面を有するニッケル-グラフェンナノ層は,ヘリウム(He)脆化に対して優れた抵抗性を有し,溶融塩反応器システムの候補材料として提案されていると期待されている。しかし,ニッケル-グラフェンナノ層に及ぼすHe照射効果は現在ほとんど理解されていない。本研究では,He関連クラスタの核形成と成長に及ぼすニッケル-グラフェン界面(NGI)の影響を原子論的シミュレーションを用いて研究した。NGIはHe関連クラスタの形成エネルギーと拡散エネルギー障壁を減少させた。還元はHe関連クラスタを界面により容易に捕捉し,その結果顕著な偏析をもたらす。その結果,バルク中のHe濃度はかなり減少し,バルク中のHe関連クラスタの核形成と成長速度は遅れた。NGIにおけるHe関連クラスタの高い移動度のために,これらのクラスタはバルクにおけるそれらより大きなクラスタを形成するために容易に合体する。ナノ層の合理的な設計は,材料からのHe放出を促進する可能性がある。本研究の結果は,極端な環境におけるニッケル-グラフェンナノ層のサービス寿命評価のための基本的支援を提供することができる。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  耐用年数 ,  融解塩 ,  *クラスタ ,  偏析 ,  *グラフェン ,  *ヘリウム ,  核形成 ,  成長速度 ,  反応器 ,  移動度
準シソーラス用語： エネルギー障壁 ,  原子論的シミュレーション ,  ナノ薄膜 ,  高密度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ニッケル-グラフェン界面 ,  ヘリウム脆化 ,  クラスタ ,  偏析 ,  原子論的シミュレーション

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (7件)： ニッケル ,  グラフェン ,  界面 ,  ヘリウム ,  クラスタ ,  放出 ,  研究