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J-GLOBAL ID：201902227004651301   整理番号：19A0098704

成長中の反射高エネルギー電子回折強度からの高速位相回復

Fast Phase Retrieval from Reflection High Energy Electron Diffraction Intensities during Growth

著者 (1件)： Kawamura Takaaki (Surface and Vacuum Physics, Institute of Industrial Science, University of Tokyo)
資料名： e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))
巻： 16  ページ： 97-100(J-STAGE)  発行年： 2018年 
JST資料番号： U0016A  ISSN： 1348-0391  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反射高エネルギー電子回折(RHEED)強度からの高速位相回復法を,成長表面を実時間で監視するために提案した。この手法はハイブリッド入出力アルゴリズムに基づいており,処理時間は成長中のRHEED強度に特異性を取り入れることにより二つの方法で低減される。一つは入射ビーム方向に沿ったサンプリング点の数を減らすことであり,その数はビームのすれすれ入射による法線方向のそれよりもはるかに大きい。もう一つは,回復プロセスにおける反復数を減らすことである。得られた実空間物体は良く再現され,約0.1sで成長中に表面形態を与えた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *RHEED ,  強度 ,  *位相回復 ,  追跡 ,  *実時間処理 ,  自動監視 ,  アルゴリズム ,  加工時間 ,  すれすれ入射 ,  逐次検出 ,  逐次近似 ,  再現性 ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  *MBE成長 ,  ハイブリッドアルゴリズム ,  回折強度 ,  表面形態 ,  時間 ,  加工条件 ,  条件 ,  構造
準シソーラス用語： リアルタイムモニタリング ,  実時間追跡 ,  処理時間 ,  反射高エネルギー電子回折

著者キーワード (5件)： RHEED ,  位相回復 ,  表面形態 ,  MBE成長 ,  実時間観測

分類 (2件)： 結晶成長技術・装置  (BK13020B) ,  電子回折法  (BK01030T)

引用文献 (11件)：

• [1] J. H. Neave, B. A. Joyce, P. J. Dobson, and N. Norton, Appl. Phys. A 31, 1 (1983). https://doi.org/10.1007/BF00617180
• [2] C. S. Lent and P. I. Cohen, Surf. Sci. 139, 121 (1984). https://doi.org/10.1016/0039-6028(84)90013-X
• [3] T. Kawamura, P. A. Maksym, and T. Iijima, Surf. Sci. 148, L671 (1984). https://doi.org/10.1016/0039-6028(84)90574-0
• [4] T. Kawamura and P. A. Maksym, Surf. Sci. 161, 12 (1985). https://doi.org/10.1016/0039-6028(85)90724-1
• [5] T. Kawamura, Surf. Sci. 351, 129 (1996). https://doi.org/10.1016/0039-6028(95)01262-1

タイトルに関連する用語 (3件)： 成長 ,  反射高エネルギー電子回折 ,  位相回復