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J-GLOBAL ID:201902236369538904   整理番号:19A0128939

コバルトアミジナートによる窒化コバルトのプラズマ増強原子層堆積【JST・京大機械翻訳】

Plasma enhanced atomic layer deposition of cobalt nitride with cobalt amidinate
著者 (7件):
資料名:
巻: 37  号:ページ: 010904-010904-7  発行年: 2019年 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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コバルト窒化物(Co_3N_x)薄膜を,ビス(N,N′-ジ-iso-propylacetamidinato)コバルト(II)[Co(ipr2AMD)_2]とNH_3プラズマを用いて,100°Cまでの低温でプラズマ増強原子層蒸着(ALD)法により蒸着した。飽和曲線は,堆積過程が0.075nm/サイクルの成長速度で理想的自己制限ALD様式に従うことを示した。Co_3N_xの公称式におけるxは約0.78であり,膜は六方晶系Co_3N結晶構造を有する多結晶であることを実証した。このプロセスは,20:1のアスペクト比をもつトレンチにおいて,純粋で滑らかで,高度に共形のCo_3N_x膜を堆積することができ,低温での他の金属窒化物の堆積に拡張できる。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
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その他の無機化合物の薄膜  ,  酸化物薄膜 
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