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J-GLOBAL ID：201902238992653536   整理番号：19A1408552

表面増強赤外吸収分光法のためのナノ球レンズリソグラフィーを用いた設計ナノ構造の大規模ナノ加工【JST・京大機械翻訳】

Large-Scale Nanofabrication of Designed Nanostructures Using Angled Nanospherical-Lens Lithography for Surface Enhanced Infrared Absorption Spectroscopy

著者 (8件)： Chien Yi-Hsin (Research Center for Applied Sciences, Academia Sinica, Taiwan) ,  Wang Chang-Han (Research Center for Applied Sciences, Academia Sinica, Taiwan) ,  Liu Chi-Ching (Research Center for Applied Sciences, Academia Sinica, Taiwan) ,  Chang Shih-Hui (Department of Photonics, National Cheng Kung University, Taiwan) ,  Kong Kien Voon (Department of Chemistry, National Taiwan University, Taiwan) ,  Chang Yun-Chorng (Research Center for Applied Sciences, Academia Sinica, Taiwan) ,  Chang Yun-Chorng (Department of Photonics, National Cheng Kung University, Taiwan) ,  Chang Yun-Chorng (Department of Physics, National Taiwan University, Taiwan)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9  号： 29  ページ： 24917-24925  発行年： 2017年07月26日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノフォトニクスは過去10年間に焦点を当てた研究分野であり,人間の生活を変えることを約束する多くの新しい概念をもたらした。しかし,実際の製品への本研究の実際の浸透は,経済的ナノ製造の遅い開発のために,非常に制限されている。本研究では,大規模で周期的なナノパターンを生成することができる,「角度ナノ球面レンズリソグラフィー(A-NLL)」と呼ばれる汎用で低コストのナノ作製法を実証した。二次元極性チャート内に設計したナノパターンを基板上に注意深く作製できた。作製したパターンは1cm2以上の面積を容易にカバーし,高価で嵩高いIR顕微鏡を必要としない表面増強赤外吸収(SEIRA)のプラットフォームとして有益である。提案したA-NLL法は将来のナノフォトニック応用の工業化に理想的であると信じる。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 極性 ,  二次元 ,  工業化 ,  *ナノメータ加工 ,  *ナノ構造 ,  表面プラズモン ,  *リソグラフィー
準シソーラス用語： *赤外吸収 ,  ローコスト ,  球面レンズ ,  ナノパターン ,  ナノフォトニクス ,  *ナノボール ,  表面増強赤外吸収分光法 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ナノ球 ,  表面プラズモン ,  ナノ加工 ,  SEIRA ,  リソグラフィー

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (8件)： 表面増強赤外吸収分光法 ,  ナノ球 ,  レンズ ,  リソグラフィー ,  設計 ,  ナノ構造 ,  大規模 ,  ナノ加工