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J-GLOBAL ID:201902239237854130   整理番号:19A2835024

プラズマ励起加湿アルゴンを用いた酸化ニオブの室温原子層堆積とその塩酸への応用【JST・京大機械翻訳】

Room temperature atomic layer deposition of niobium oxide using plasma excited humidified argon and its application to anticorrosion to hydrochloric acid
著者 (8件):
資料名:
巻: 37  号:ページ: 060901-060901-6  発行年: 2019年 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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(tert-ブチルイミド)トリス(エチルメチルアミド)ニオブとプラズマ励起加湿Arを用いて,Nb_2O_5の室温(RT)原子層蒸着(ALD)を開発した。プロセス条件を設計するために,IR吸収分光法(IRAS)のその場監視システムを用いて,前駆体の表面飽和を観察した。IRASから測定された前駆体の飽和特性に基づいて,ガス注入条件と酸化時間を決定し,0.11nmのサイクル当たりの成長によるRT Nb_2O_5堆積をX線光電子分光法と分光エリプソメトリによって確認した。RT堆積したNb_2O_5膜は塩酸に対して明確な防食を示した。本論文では,ALD成長の反応機構とRT蒸着N_2O_5による防食膜の適用性について議論した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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