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J-GLOBAL ID：201902239948523893   整理番号：19A0810583

酒石酸修飾Ni触媒上での3-オキソ酪酸アルキルのエナンチオ識別水素化 機構的特徴を解明するためのツールとしてのエンタルピー-エントロピー補償効果【JST・京大機械翻訳】

Enantio-differentiating hydrogenation of alkyl 3-oxobutanoates over tartaric acid-modified Ni catalyst: Enthalpy-entropy compensation effect as a tool for elucidating mechanistic features

著者 (6件)： Osawa Tsutomu (Graduate School of Science and Engineering for Research, University of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, Japan) ,  Wakasugi Masahiro (Graduate School of Science and Engineering for Research, University of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, Japan) ,  Kizawa Tomoko (Metek Co. Ltd, Warada-cho, Kamitoba Minami-ku, Kyoto 601-8133, Japan) ,  Borovkov Victor (Department of Chemistry and Biotechnology, School of Science Tallinn University of Technology Akadeemia tee 15, 12618 Tallinn, Estonia) ,  Borovkov Victor (College of Chemistry and Materials Science South-central University for Nationalities 182# Minzu RD, Hongshan District, Wuhan City, Hubei province, 430074, China) ,  Inoue Yoshihisa (Department of Applied Chemistry, Osaka University, Yamada-oka, Suita 565-0871, Japan)
資料名： Molecular Catalysis  (Molecular Catalysis)
巻： 449  ページ： 131-136  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0605C  ISSN： 2468-8231  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一連のアルキル3-オキソブタン酸エステルのエナンチオ識別水素化を,市販Ni粉末から調製した(R,R)酒石酸修飾Ni触媒上で333~393Kの温度範囲で行い,91~94%の高エナンチオマ過剰率を達成した。エナンチオ選択性は反応温度の単純な関数ではなく,低温領域で増強され,363~373Kで最大値に達し,それから高温で減少することが示された。それにもかかわらず,低温および高温領域におけるエナンチオマ比から計算した活性化のすべての微分エンタルピーおよびエントロピーは,互いに補償し,全温度範囲にわたって同じエナンチオ分化機構を示した。エナンチオ選択性に及ぼす水素化温度の影響を説明する妥当なエナンチオ識別機構を提案した。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 分化 ,  *触媒 ,  *エンタルピー ,  エナンチオマ ,  低温 ,  *水素化 ,  高温 ,  反応温度 ,  *エントロピー ,  微分 ,  *ニッケル ,  エナンチオ選択性 ,  エナンチオマ過剰率 ,  温度範囲

著者キーワード (4件)： エナンチオ識別水素化 ,  3-オキソブタン酸アルキル ,  酒石酸修飾ニッケル粉末 ,  エンタルピー-エントロピー補償

分類 (2件)： 反応の立体化学  (CF02130V) ,  その他の触媒  (CB06123Z)

物質索引 (1件)： 酒石酸

タイトルに関連する用語 (11件)： 酒石酸 ,  修飾 ,  Ni ,  触媒 ,  3-オキソ酪酸 ,  識別 ,  水素化 ,  ツール ,  エンタルピー ,  エントロピー ,  補償効果