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J-GLOBAL ID：201902240823791390   整理番号：19A2346579

明確なモノリス形態は細胞接着とその機能を調節する【JST・京大機械翻訳】

Well-defined monolith morphology regulates cell adhesion and its functions

著者 (6件)： Yoshikawa Chiaki (WPI-MANA, National Institute for Materials Science (NIMS), 1-2-1 Sengen, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan) ,  Sakakibara Keita (Institute for Chemical Research, Kyoto University, Gokasho, Uji, Kyoto 611-0011, Japan) ,  Nakaji-Hirabayashi Tadashi (WPI-MANA, National Institute for Materials Science (NIMS), 1-2-1 Sengen, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan) ,  Nakaji-Hirabayashi Tadashi (Graduate School of Science and Engineering, University of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama, Toyama 930-8555, Japan) ,  Yamazaki Tomohiko (Research Center for Functional Materials, NIMS, 1-2-1, Tsukuba, Ibaraki 305-0047, Japan) ,  Tsujii Yoshinobu (Institute for Chemical Research, Kyoto University, Gokasho, Uji, Kyoto 611-0011, Japan)
資料名： Materials Science & Engineering. C. Materials for Biological Applications  (Materials Science & Engineering. C. Materials for Biological Applications)
巻： 105  ページ： Null  発行年： 2019年 
JST資料番号： W0574A  ISSN： 0928-4931  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 親水性エポキシ樹脂ベースのモノリスを細胞培養基質として用いた。モノリスは多孔質チャネルと樹脂骨格から成る双連続構造を有する多孔質材料で作られた。モノリスディスクを,重合誘起スピノーダル分解型相分離により,表面のない表面で調製した。重合温度で良く制御された細孔径は70~380nmの範囲であった。モノリス基質上のHepG2細胞の単位面積当たりの吸着量と初期段階接着は細孔サイズに依存せず,表面トポロジーにより影響されないことを意味した。接着細胞数と形状および肝臓特異的遺伝子発現により示されるように,長期細胞接着は,孔サイズにより有意に影響された。細胞形状,数および遺伝子発現に関して,約200nmの細孔がHepG2細胞増殖に最も適していた。これらの結果は,細胞培養基質としての使用のためのモノリス形態の重要性を強調する。本研究で示された良く制御された形態は,モノリスがさまざまな応用範囲で種々のタイプの細胞に対する成長を支持できることを示す。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： スピノーダル分解 ,  細胞培養 ,  チャネル ,  細孔径 ,  細孔 ,  *形態 ,  *細胞接着 ,  位相幾何学 ,  *接着 ,  多孔性 ,  基質 ,  遺伝子発現 ,  重合
準シソーラス用語： 細胞形態 ,  *モノリス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： モノリス ,  エポキシ樹脂 ,  多孔質トポロジー ,  蛋白質吸着 ,  細胞接着 ,  遺伝子発現解析

分類 (2件)： 細胞生理一般  (EF02010S) ,  医用素材  (GA05040H)

タイトルに関連する用語 (4件)： モノリス ,  形態 ,  細胞接着 ,  調節