文献

J-GLOBAL ID：201902246890791393   整理番号：19A0337053

プラズマ分子ビーム散乱法による壁表面へのH原子吸着の評価【JST・京大機械翻訳】

Evaluation of H-atom adsorption on wall surfaces with a plasma molecular beam scattering technique

著者 (4件)： Saiki Yu (Department of Mechanical Engineering, Nagoya Institute of Technology, Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, Japan) ,  Kinefuchi Ikuya (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Tokyo, Japan) ,  Fan Yong (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Tokyo, Japan) ,  Suzuki Yuji (Department of Mechanical Engineering, The University of Tokyo, Tokyo, Japan)
資料名： Proceedings of the Combustion Institute  (Proceedings of the Combustion Institute)
巻： 37  号： 4  ページ： 5569-5576  発行年： 2019年 
JST資料番号： A0273A  ISSN： 1540-7489  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 火炎-壁相互作用における壁化学効果に対する正確なモデリングに向けて,異なる壁面上のラジカル吸着を,非平衡プラズマ駆動ビーム源と超高真空容器を用いた新しく開発した分子ビーム散乱法により直接評価した。最初に,メタン-空気予混合火炎に対する詳細なガス/表面化学による一連の数値シミュレーションにより,壁化学効果に対する各ラジカル種の吸着速度の感度を調べた。H-原子はより高い拡散性を有し,その吸着はH+O_2_=O+OHの鎖分岐反応を著しく阻害するので,OH,O,CH_3と比較して,熱放出速度やCO放出などの火炎特性に対する最も影響力のあるラジカルであると考えられる。感度解析に基づいて,プラズマ分子ビーム散乱測定により石英とSUS321表面のH吸着を定量化した。H原子ビームはH_2分子のプラズマ解離により成功裏に生成できることを確認した。次に,生成したHビームを異なる壁温度T_wで石英とSUS321表面に照射した。Hは石英とSUS321表面に吸着され,H P_Hの反応確率は両表面に対してT_w~673Kで最大となることが分かった。これは,おそらくT_wが増加するにつれて再結合速度が増加し,一方,脱着速度も促進され,T_w>673Kでの再結合速度を克服するからである。SUS321のP_Hは著者らの以前の燃焼実験のそれと一致し,より正確な値は本方法によって得ることができた。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ラジカル ,  石英 ,  シミュレーション ,  *分子ビーム ,  燃焼試験 ,  *プラズマ ,  相互作用 ,  *散乱 ,  熱放射 ,  超高真空 ,  吸着速度 ,  予混合火炎 ,  *吸着 ,  モデリング
準シソーラス用語： *水素原子 ,  数値シミュレーション , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 火炎-壁相互作用 ,  ラジカル消光 ,  H原子 ,  分子ビーム散乱 ,  非平衡プラズマ

分類 (2件)： 燃焼理論  (XE04020H) ,  無触媒気相反応  (CB06050Y)

タイトルに関連する用語 (7件)： プラズマ ,  分子ビーム ,  散乱 ,  壁表面 ,  H原子 ,  吸着 ,  評価