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J-GLOBAL ID：201902246914608393   整理番号：19A1415490

SU-8に基づくフォトレジストに使用されるスルホニウム光酸発生剤の多光子励起の秩序【JST・京大機械翻訳】

Order of multiphoton excitation of sulfonium photo-acid generators used in photoresists based on SU-8

著者 (5件)： Williams Henry E. (Chemistry Department, University of Central Florida, Orlando, Florida 32816, USA) ,  Diaz Carlos (Chemistry Department, University of Central Florida, Orlando, Florida 32816, USA) ,  Padilla Gabriel (Chemistry Department, University of Central Florida, Orlando, Florida 32816, USA) ,  Hernandez Florencio E. (Chemistry Department, University of Central Florida, Orlando, Florida 32816, USA) ,  Kuebler Stephen M. (Chemistry Department, University of Central Florida, Orlando, Florida 32816, USA)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 121  号： 22  ページ： 223104-223104-12  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多光子リソグラフィー(MPL),Z走査分光法,および量子化学計算を用いて,フェムト秒レーザパルスを用いて,架橋可能なエポキシドSU-8に基づくフォトレジストで一般的に使用される二つのスルホニウム光酸発生器(PAGs)を励起したとき起こる多光子励起の次数を調べた。これらのPAGsのモノ-及びビス-スルホニウム型のモル分率を,市販のフォトレジストSU-82075及び分離源からのPAGs単独に対して測定した。両方ともモノ型とビス型の類似画分を含むことが分かった。Reichert法を用いてSU-8マトリックスのソルバトクロミック強度を測定し,SU-8および溶液中のPAGに対して得られた結果を信頼性良く比較することができた。PAGsはSU-8自身のソルバトクロミック強さを横切ってスパンする一連の溶媒に対して最小のソルバトクロミックシフトを示すことが分かった。サブミクロンサイズの特徴を,増幅および連続波モード同期レーザパルスを用いて,MPLによりSU-82075において作製した。平均レーザ出力,走査速度および励起波長の関数としての特徴の解析は,PAGsが2および3光子吸収(2PAおよび3PA)により活性化できることを示した。活性化モードは主に励起波長に依存し,フォトレジストに使用できる平均レーザ出力は実用的な考慮により制限される。パワーは十分な架橋を効果的にするために十分高くなければならないが,材料の損傷閾値を超えるほど高くはならない。レーザパルスが100fsのオーダーの継続時間を持つとき,3PAは800nm付近の波長で支配的であるが,2PAは700nm以下の波長で支配的になる。これらの知見は開口Z走査測定と波長の関数として2PAと3PAに対する断面積の量子化学計算によって確証される。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： パルス ,  連続波 ,  レーザ出力 ,  断面積 ,  開口 ,  *光子 ,  *スルホニウム ,  *フォトレジスト ,  リソグラフィー ,  波長 ,  *多光子励起 ,  走査 ,  レーザパルス
準シソーラス用語： ソルバ ,  *SU-8 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： SU-8 ,  フォトレジスト ,  スルホニウム ,  光酸発生剤 ,  多光子励起