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J-GLOBAL ID:201902247028207396   整理番号:19A1408289

MOS_2厚さ変調ITO/MOS_2/p-Siヘテロ接合で観測した大きな横方向光起電力【JST・京大機械翻訳】

Large Lateral Photovoltage Observed in MoS2 Thickness-Modulated ITO/MoS2/p-Si Heterojunctions
著者 (7件):
資料名:
巻:号: 21  ページ: 18377-18387  発行年: 2017年05月31日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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典型的な二次元(2D)材料としての二硫化モリブデン(MoS_2)は,その魅力的な光学的および電気的性質のために,近年大きな注目を集めている。しかし,MoS_2の応用は,主に光起電力デバイス,電界効果トランジスタ,光検出器,およびガスセンサにあった。ここでは,MoS_2が,それにおける横方向光起電力効果(LPE)に基づく位置敏感検出器(PSD)におけるもう一つの重要な応用であることを示した。ITO/MoS_2(3,5,7,9,10,20,50,100nm)/p-Siヘテロ接合をMoS_2の垂直に立ったナノシート構造で首尾よく調製した。比較的厚いMoS_2膜の特別な構造と強い光吸収のために,ITO/MoS_2/p-Siヘテロ接合は異常な厚さ依存性のLを示し,それはMoS_2のn型からp型への変換に起因する。さらに,ITO/MoS_2/p-Si構造のLPEは,可視から近赤外への広いスペクトル応答,特に赤外領域における顕著な改善により,フォワード増強内蔵場のために大幅に改善され,赤外PSDにおける大きな潜在的応用を示した。本研究は,ITO/MoS_2/p-Siヘテロ接合が,LPEベースのセンサにおいて大きな可能性を示すだけでなく,強い光吸収と適切なバンドギャップの他に,MoS_2ベースの光電素子におけるMoS_2のタイプ変換の重要性を明らかにした。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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太陽電池 

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