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J-GLOBAL ID：201902251134249279   整理番号：19A2598091

酸化鉄エピタキシャル薄膜の低温合成と構造・価数制御

著者 (7件)： 菅大介 (京大 化研) ,  菅野聡 (京大 化研) ,  小杉佳久 (京大 化研) ,  小林顕斗 (京大 化研) ,  上林奈央 (京大 化研) ,  小金澤智之 (JASRI/SPring-8) ,  島川祐一 (京大 化研)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 80th  ページ： ROMBUNNO.18a-E311-3  発行年： 2019年09月04日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 金属酸化物が示す多彩な物性は構造相や遷移金属の価数と密接に相関している。そのため、酸化物中の構造や価数制御は物質機能開発に重要である。本研究では、複数の構造相や価数状態を有する酸化鉄FeOxに着目し、化学的蒸着手法のひとつであるミストCVD...【本文一部表示】

シソーラス用語： *酸化鉄 ,  基板 ,  酸化アルミニウム ,  *ヘテロエピタクシー ,  鉄錯体 ,  MOCVD ,  *蒸着膜 ,  *ミスト ,  液相成長 ,  *LPCVD ,  溶液 ,  原子価
準シソーラス用語： 液相エピタクシー

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸化鉄 ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  低温合成 ,  価数