文献

J-GLOBAL ID：201902252484995318   整理番号：19A1821595

低温合成堆積技術 低温合成に向けた架橋配位子アシスト水熱法による3次元ナノ構造

著者 (2件)： 渕上輝顕 (Nagoya Inst. Technol.) ,  柿本健一 (Nagoya Inst. Technol.)
資料名： セラミックス  (Bulletin of the Ceramic Society of Japan)
巻： 54  号： 8  ページ： 554-558  発行年： 2019年08月01日 
JST資料番号： S0291A  ISSN： 0009-031X  CODEN： SERAA7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・電子デバイスにおいてセラミックスを利用するためには合成の低温化の課題克服が重要であるが,本稿ではその一つの解として架橋配位子アシストによる水熱法による三次元ナノ構造の構築の事例を紹介。
・ナノ粒子の焼結性,塑性変形およびハンドリング。
・水熱法による三次元ナノ構造の合成と焼結挙動。

シソーラス用語： *セラミック ,  化学合成 ,  *水熱合成 ,  配位子 ,  *ナノ構造 ,  焼結
準シソーラス用語： 架橋配位子 ,  低温合成

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

引用文献 (20件)：

• J. Akedo, J. Therm. Spray Technol., 17, 181-198 (2008).
• J. Akedo, J. Am. Ceram. Soc., 89, 1834-1839 (2006).
• T. Shiraishi, N. Kaneko, M. K. Kurosawa, H. Uchida and H. Funakubo, J. Japan Soc. Powder Powder Metall., 65, 673-677 (2018).
• T. Shiraishi, Y. Ito, M. Ishikawa, H. Uchida, T. Kiguchi, K. Kurosawa, H. Funakubo and J. Konno, J. Ceram. Soc. Japan, 126, 281-285 (2018).
• J. Guo, H. Guo, A. L. Baker, M. T. Lanagan, E. R Kupp, G. L. Messing and C. A. Randall, Angew. Chemie Int. Ed., 55,11457-11461 (2016).

タイトルに関連する用語 (7件)： 低温合成 ,  堆積 ,  架橋配位子 ,  アシスト ,  水熱法 ,  3次元 ,  ナノ構造