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J-GLOBAL ID:201802288019520825   整理番号:18A1010990

反復水熱堆積法による{001}c配向エピタキシャル(K,Na)NbO3厚膜の作製

Preparation of {001}c-oriented epitaxial (K, Na)NbO3 thick films by repeated hydrothermal deposition technique
著者 (8件):
資料名:
巻: 126  号:ページ: 281-285(J-STAGE)  発行年: 2018年 
JST資料番号: U0409A  ISSN: 1348-6535  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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{001}c配向(K0.86Na0.14)NbO3厚膜を,(100)cSrRuO3//(100)SrTiO3基板上に,反復水熱堆積法により240°Cで作製した。膜厚は堆積繰返し数と共に直線的に増加し,9回の堆積繰返し後に60μm厚膜が得られることが分かった。X線蛍光分光法で測定した堆積した厚膜のK/(K+Na)比は堆積繰返し数に関係なく一定値を示した。断面走査電子顕微鏡画像により,顕著な微小亀裂や細孔がない高密度膜の均一性が明らかになった。X線回折,XRD2θ-ωパターンおよびX線極点図形測定に基づく構造評価により,膜と{001}c配向した基板のエピタキシャル関係が堆積繰返しを通して維持されることが分かった。さらに,断面Ramanスペクトルにより,60μm厚(K0.86Na0.14)NbO3膜は斜方晶構造を有することが分かった。誘電率,εrおよびtanδは周波数依存性を示した。100Hzで測定した平均残留分極は8μC/cm2であった。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 

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