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J-GLOBAL ID:201902255350303001   整理番号:19A0470192

転位フィルタを用いたSi上の1.7eV Al_0.2Ga_0.8Asおよび1.42eV GaAs太陽電池のMBE成長:III-V/Si太陽電池アーキテクチャに向けた代替経路【JST・京大機械翻訳】

MBE growth of 1.7eV Al0.2Ga0.8As and 1.42eV GaAs solar cells on Si using dislocations filters: an alternative pathway toward III-V/ Si solar cells architectures
著者 (10件):
資料名:
巻: 2017  号: PVSC  ページ: 3370-3375  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Si上のIII-V太陽電池の変成エピタキシャル成長は,III-V/Si光起電力アーキテクチャの開発に対して大きな関心を引き付けている。本研究では,Si上へのAl_xGa_1-xAs材料の直接核形成に基づくMBE成長技術を用いた代替経路を提示し,続いて1.7eV Al_0.2Ga_0.8Asまたは1.42eV GaAs太陽電池の成長を行った。熱サイクルアニーリング(TCA)と組み合わせた転位フィルタ層(DFLs)を用いて,セルのベースにおいて10~7cm-2以下のThread Dislocation density(TDD)を減少させた。変成緩衝液で実証された最良の結果に近い。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
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音声処理  ,  符号理論  ,  専用演算制御装置 

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