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J-GLOBAL ID：201902256050013687   整理番号：19A1939562

結晶シリコンのオクタフルオロシクロブタンプラズマジェットエッチングの予備的研究【JST・京大機械翻訳】

The Prelimniary Investigation of Octrafluorocyclobutane Plasma Jet Etching of Crystalline Silicon

著者 (5件)： Huang Chun (Department of Chemical Engineering & Materials Science, Yuan Ze University, Taiwan) ,  Liu Wei-Ting (Department of Chemical Engineering & Materials Science, Yuan Ze University, Taiwan) ,  Li Wei-Lun (Department of Chemical Engineering & Materials Science, Yuan Ze University, Taiwan) ,  Huang Li-Ko (Department of Chemical Engineering & Materials Science, Yuan Ze University, Taiwan) ,  Chen Yi-An (Department of Chemical Engineering & Materials Science, Yuan Ze University, Taiwan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： SNW  ページ： 1-2  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 容量結合無線周波数二重管大気圧プラズマジェットをマイクロ電気機械システムの作製におけるエッチングプロセスに用いた。エッチングは結晶シリコン基板上で行った。エッチング速度はエッチングガス組成とプラズマ条件によって制御できる。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 二重管 ,  *プラズマ ,  *プラズマジェット ,  *エッチング ,  ガス組成 ,  大気圧プラズマジェット ,  無線周波数 ,  *結晶性シリコン ,  脂肪族フッ素化合物
準シソーラス用語： エッチング速度 ,  容量結合 ,  *結晶シリコン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  音声処理  (JE05000E)

物質索引 (1件)： オクタフルオロシクロブタン

タイトルに関連する用語 (5件)： 結晶シリコン ,  オクタフルオロシクロブタン ,  プラズマジェット ,  エッチング ,  予備的研究