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J-GLOBAL ID：201902258335403223   整理番号：19A0103257

電子線パルスラジオリシス法によるポリαメチルスチレンの照射効果の研究

著者 (4件)： 内田朋哉 (Waseda Univ.) ,  花井周太郎 (Waseda Univ.) ,  坂上和之 (Waseda Univ.) ,  鷲尾方一 (Waseda Univ.)
資料名： 日本加速器学会年会(Web)  (日本加速器学会年会プロシーディングス(Web))
巻： 15th  ページ： ROMBUNNO.THP130 (WEB ONLY)  発行年： 2018年 
JST資料番号： U0092A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 電子ビーム ,  *電子ビームリソグラフィー ,  *パルス放射線分解 ,  ポリメチルスチレン ,  *放射線効果 ,  反応機構 ,  材料 ,  電子線照射効果
準シソーラス用語： パルスラジオリシス ,  レジスト材料 ,  電子線 ,  電子線リソグラフィー

分類 (2件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V) ,  電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子線 ,  パルスラジオリシス ,  αメチルスチレン ,  照射効果 ,  研究