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J-GLOBAL ID:201902259335665575   整理番号:19A0787735

TiO_2薄膜の種々の性質に及ぼすマグネトロンパワーモードの影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of magnetron powering mode on various properties of TiO2 thin films
著者 (8件):
資料名:
巻: 36  号:ページ: 748-760  発行年: 2018年 
JST資料番号: U8080A  ISSN: 2083-134X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,連続および連続マグネトロンスパッタリングプロセスによって蒸着した二酸化チタン(TiO_2)薄膜の構造,表面,光学的,機械的および腐食特性に関する比較研究を提示した。連続プロセスの場合,マグネトロンを90分間電圧で連続的に供給した。順次プロセスにおいて,電圧は1sの破壊で交互に1秒間供給され,したがって,プロセスの合計時間は180分まで延長された。TiO_2薄膜は亀裂がなく,基板への良好な接着性を示し,表面形態は均一であった。構造解析は,連続および連続プロセスで堆積したコーティング間の微細構造に大きな違いはないことを示した。両方の膜は約21nmの結晶子サイズを持つナノ結晶アナターゼ構造を示した。堆積した被覆は可視波長範囲で高い透明性を有していた。多孔性(逐次プロセスで低い),引かき抵抗(逐次プロセスでより良い),機械的性能,すなわち硬度:弾性係数比(逐次プロセスでより高い)および耐食性(逐次プロセスでより良い)において有意差が観察された。Copyright 2018 Artur Wiatrowski et al., published by Sciendo Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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