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J-GLOBAL ID：201902263936675537   整理番号：19A2905713

ミスト表面への噴霧とUV照射の併用による水中の親水性および疎水性アルデヒドの超音波分解の改善【JST・京大機械翻訳】

Improved ultrasonic degradation of hydrophilic and hydrophobic aldehydes in water by combined use of atomization and UV irradiation onto the mist surface

著者 (5件)： Ono Yusei (Graduate School of Science and Engineering, Saitama University, 255 Shimo-Okubo, Sakura, Saitama 338-8570, Japan) ,  Sekiguchi Kazuhiko (Graduate School of Science and Engineering, Saitama University, 255 Shimo-Okubo, Sakura, Saitama 338-8570, Japan) ,  Sankoda Kenshi (Graduate School of Science and Engineering, Saitama University, 255 Shimo-Okubo, Sakura, Saitama 338-8570, Japan) ,  Nii Susumu (Department of Chemical Engineering, Kagoshima University, 1-21-40 Korimoto, Kagoshima 890-0065, Japan) ,  Namiki Norikazu (Faculty of Engineering, Kogakuin University, 2665-1 Nakano-Machi, Hachioji, Tokyo 192-0015, Japan)
資料名： Ultrasonics Sonochemistry  (Ultrasonics Sonochemistry)
巻： 60  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0716A  ISSN： 1350-4177  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱分解の化学的影響と噴霧化の物理的影響の両方を誘発する430kHzの超音波照射を,UV_254照射とH_2O_2添加による水中の有機物質の高度に効果的分解を達成するために実施した。分解速度に及ぼす基質の物理化学的性質の影響を調べるために,3つの異なるアルデヒド,すなわちホルムアルデヒド,アセトアルデヒド,およびベンズアルデヒドをモデル基質として選択した。超音波照射のみでは,疎水性基質ベンズアルデヒドの除去率は120分後に100%に達したが,親水性基質のホルムアルデヒドとアセトアルデヒドの除去率はそれぞれ21.1%と53.0%であった。超音波噴霧とUV_254照射を組み合わせることによって,ホルムアルデヒドとアセトアルデヒドは,ミスト粒子の表面上で効果的気相分解を受けた。UV_254照射による光分解は,水超音波分解によって作られたH2O_2から誘導されたヒドロキシルラジカルの反応よりもむしろ,ミスト表面上のアルデヒドの分解に主に影響した。しかし,H_2O_2の添加は,ミスト粒子表面上のヒドロキシルラジカルの生成により,親水性および疎水性アルデヒドの両方に対する分解および無機化速度を効果的に改善し,気相分解に大きく寄与した。その結果,有機汚染物質の効果的な分解は,水性媒体中の物理化学的性質にかかわらず達成された。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 気相 ,  *アルデヒド ,  無機化 ,  超音波照射 ,  *紫外線照射 ,  紫外線 ,  光分解 ,  *親水性 ,  ヒドロキシルラジカル ,  熱分解 ,  *ミスト ,  *超音波 ,  基質 ,  *疎水性 ,  脂肪族アルデヒド

著者キーワード (6件)： 超音波波 ,  超音波微粒化 ,  紫外線 ,  アルデヒド ,  分解速度 ,  無機化

分類 (5件)： その他の音響応用  (BB03100I) ,  産業廃水処理  (SC03080D) ,  膜流,液滴,気泡,キャビテーション  (BC02070U) ,  その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  その他の廃水処理・処分  (SC03070S)

物質索引 (1件)： アセトアルデヒド

タイトルに関連する用語 (9件)： ミスト ,  噴霧 ,  UV照射 ,  併用 ,  水中 ,  親水性 ,  疎水性 ,  アルデヒド ,  超音波分解