FPDパネルフォトマスク用の新しい超高平坦基板【JST・京大機械翻訳】

Ishitsuka Youkou; Harada Daijitsu; Watabe Atsushi; Takeuchi Masaki

文献

J-GLOBAL ID：201902264105863477 整理番号：19A0909276

FPDパネルフォトマスク用の新しい超高平坦基板【JST・京大機械翻訳】

Shin-Etsu super-high-flat substrate for FPD panel photomask

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資料名：
巻： 10807 ページ： 1080705-5 発行年： 2018年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

最近,高解像度露光機が高精細(HD)パネルの製造のために開発され,FPD用のより高いフラットなフォトマスク基板が,パネルメーカーがHDパネルを製造するために期待されている。本報告では,超高平坦で形状制御された大サイズのフォトマスク基板を作製するためのShin-Etsuの先進技術をレビューした。これは,過去のPMJ2017年を報告し,その後の進歩報告をこれまでに行っている。光マスク基板の表面研磨と平坦化技術を開発した。最も進歩したICフォトマスク基板は,その優れた表面品質(サブ0.1μmサイズ欠陥のない非欠陥表面)と究極の平坦性(達成されたサブ0.1μmオーダー)のために,顧客から最高の推定と評価を得た。これらのICフォトマスク基板技術をスケールアップし,ユニークな大サイズ処理技術を開発することにより,G8xフォトマスクとG10フォトマスク基板,ならびに通常のG6-G8フォトマスク基板さえも高平坦な大基板を作製することができた。コア技術は,基板の表面形状が,高さ情報入力と処理計算による数値制御システムによって完全に制御されることである。例えば,各サイズに対して3μm以下の平坦度をもつ基板を規則的に生成でき,その測定は高信頼性同調平坦性試験機で行われる。さらに,このコア技術を用いて表面形状が任意の基板を作製できる。それは,顧客の要求される形状,あるいは将来における潜在的に必要な形状を扱うことができ,今後の次世代FPD産業に貢献することを意味する。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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固体デバイス製造技術一般

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