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J-GLOBAL ID：201902265716749827   整理番号：19A1604336

Nikon ArFとKrFスキャナ機械のためのレンズフレアのモニタ戦略:シミュレーション結果と議論【JST・京大機械翻訳】

The Monitor Strategies of Lens Flare for Nikon ArF and KrF Scanner Machines: Simulated Results and Discussion

著者 (4件)： Zheng Zhe (Nikon Precision Shanghai Co. Ltd., Shanghai 201206, China) ,  Yang Zhenyu (Nikon Precision Shanghai Co. Ltd., Shanghai 201206, China) ,  Shao Chun (Nikon Precision Shanghai Co. Ltd., Shanghai 201206, China) ,  Ikeda Junji (Nikon Corporation, Kumagaya, Saitama 360-8559, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： CSTIC  ページ： 1-3  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フレアは248nmのKrFスキャナ上である時間にわたって知られている問題であるが,193nmのArFシステムにおいて重要性が増している。リソグラフィープロセスにおけるリソグラフィースキャナKrFとArFマシンにおける光学系フレアのレベルを監視する戦略を論じた。光学的シミュレーション結果に基づいて,リソグラフィースキャナツールにおけるプロジェクトレンズフレアの変化を追跡するために,高密度線/空間パターンのための大きい正方形パターンと臨界次元均一性(CDU)モニタ法の両方を用いることが推奨される。本論文では,マスク伝送速度,照明条件およびモニタパターンタイプ選択のようなモニタプロセスにおけるフレアの影響因子についても検討した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *シミュレーション ,  *レンズ ,  リソグラフィー ,  *走査装置 ,  *監視装置 ,  伝送速度 ,  照明条件 ,  臨界 ,  光学系
準シソーラス用語： 影響因子 ,  空間パターン ,  高密度 ,  *フレア ,  *フッ化アルゴン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (8件)： ARF ,  スキャナ ,  レンズ ,  フレア ,  モニタ ,  戦略 ,  シミュレーション ,  議論