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J-GLOBAL ID:201902267784842739   整理番号:19A2090825

DCバイアスプレートチューナによるElectronサイクロトロン共鳴プラズマにおけるビーム強度の増強【JST・京大機械翻訳】

Enhancement of Beam Intensity in Electron Cyclotron Resonance Plasma by DC Biased Plate-Tuner
著者 (6件):
資料名:
巻: 2018  号: IIT  ページ: 219-222  発行年: 2018年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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種々のイオン種を効率的に生成することを可能にするECRISを構築した。特に,非常に低いマイクロ波パワーにより,フラーレンのような分子イオンを生成することを試みた。それらを効率的に調整するために,大きなアルミニウム板から作られ,ECRISの幾何学的軸に沿って挿入された板チューナと呼ばれる組立を設置した。以前の研究では,板チューナがビーム強度を増強することを確認した。一方,ビーム強度を増強する一種類の経験的方法として,DCバイアス小ディスクをECRISの幾何学的軸に沿って挿入した。それは一般にDCバイアスディスク法と呼ばれ,多くのECRISデバイスで使用されている。バイアスされたディスクはミラー場の中心に向かって電子を配向させる。その結果,電子密度は増加し,プラズマの生産効率は向上した。この方法をプレートチューナに適用し,さらに多くのビーム強度を増強することを期待した。本研究では,多重荷電イオンビームに対する分子イオンビームと高出力(数10W)を生成するために,低マイクロ波パワー(数W)の下でDCバイアス板チューナを用いてプラズマを効率的に生成するかどうかを調べた。ビーム強度がマイクロ波同調とバイアスディスク法の相乗効果により増強される結果を得た。さらに,穴の有無による平板チューナによる実験を行い,結果の違いを確認した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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図形・画像処理一般 
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