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J-GLOBAL ID：201902268116226195   整理番号：19A0511562

原子層堆積により蒸着したNbN膜の超伝導特性【JST・京大機械翻訳】

Superconducting Characteristics of NbN Films Deposited by Atomic Layer Deposition

著者 (2件)： Ukibe Masahiro (Nanoelectronics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tsukuba, Japan) ,  Fujii Go (Nanoelectronics Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tsukuba, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Applied Superconductivity  (IEEE Transactions on Applied Superconductivity)
巻： 27  号： 4  ページ： ROMBUNNO.2201404.1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0177A  ISSN： 1051-8223  CODEN： ITASE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 約17Kの高い転移温度(T_C)をもつNbN膜の作製プロセスを開発し,1K以上の高い動作温度と原子層堆積(ALD)を用いて高い感度をもつNbN/AlN/NbN超伝導トンネル接合アレイ粒子検出器を実現した。NbN膜のソース(前駆体)は(tert-ブチルイミド)ビス(ジエチルアミノ)ニオブ[C_16H_39N_4Nb]であった。NbN膜をM面サファイアウエハ上に蒸着した。50nm厚のNbN膜を約570Kの基板温度で蒸着し,12.35Kの(T_C)を示した。ALDにより形成されたNbNの超伝導特性を改善するために,堆積後急速熱アニーリング過程を行った。(T_C)の依存性,表面形態,および膜の結晶性を熱アニーリング温度に対して評価した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 窒化アルミニウム ,  RTA【熱処理】 ,  結晶度 ,  *超伝導 ,  前駆体 ,  基板温度 ,  転移温度
準シソーラス用語： 熱アニーリング ,  表面形態 ,  粒子検出器 ,  超伝導トンネル接合 ,  動作温度 ,  *NbN ,  *ALCVD , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： パターン認識  (JE07000S) ,  人工知能  (JE08000Z) ,  ディジタルフィルタ  (NC04022Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子層堆積 ,  蒸着 ,  NbN ,  超伝導特性