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J-GLOBAL ID：201902269960817654   整理番号：19A1415756

6nm波長用の高反射率La/Bベース多層膜の熱安定性【JST・京大機械翻訳】

Thermal stability of high-reflectance La/B-based multilayers for 6.x nm wavelength

著者 (4件)： Kuznetsov D. S. (Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands) ,  Yakshin A. E. (Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands) ,  Sturm J. M. (Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands) ,  Bijkerk F. (Industrial Focus Group XUV Optics, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box 217, 7500 AE Enschede, The Netherlands)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 122  号： 12  ページ： 125302-125302-7  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Laの部分層窒化によるLa/Bベース(LaN/La/B)多層構造の熱安定性を調べ,その結果,反射率の増強をもたらすことが分かった。構造を100~500°Cの温度範囲で70時間アニールした。それらは100°Cで0.005nm,500°Cで0.06nmの周期ドリフトを示した。2%以上の反射率損失は300°C以上のアニーリング後にのみ観測された。研究は,B-on-LaNとLaN-on-La-on-B界面の別々の研究を含んだ。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 窒化 ,  *多層膜 ,  *波長 ,  *ランタン ,  *反射率 ,  *熱安定性 ,  界面 ,  焼なまし ,  ドリフト
準シソーラス用語： 温度範囲 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高反射率 ,  La ,  多層膜 ,  熱安定性