文献
J-GLOBAL ID:201902270233951720   整理番号:19A0016742

単結晶h-BNゲート誘電体を用いた高移動度ダイヤモンド電界効果トランジスタ【JST・京大機械翻訳】

High-mobility diamond field effect transistor with a monocrystalline h-BN gate dielectric
著者 (9件):
資料名:
巻:号: 11  ページ: 111105-111105-8  発行年: 2018年 
JST資料番号: U7122A  ISSN: 2166-532X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ダイヤモンドは高温で動作し,非常に高い電場に耐える広いバンドギャップ半導体である。それは,その物理的安定性を通して厳しい環境を耐えて,熱を非常によく伝導する。これらの特性はユニークな電子デバイスの作製に適したダイヤモンドを作る。特に,ダイヤモンド電界効果トランジスタ(FET)は,列車や電気自動車用の高出力コンバータや,電気通信やレーダ用の高出力高周波増幅器を含む有望な応用がある。これらの応用には高い移動度が望ましいが,特にキャリア密度が高いとき,ダイヤモンドFETでは達成することは困難である。低移動度は,おそらく非理想的非晶質ゲート誘電体と誘電体/ダイヤモンド界面における固定と捕獲電荷に起因すると思われる。ここでは,ゲート誘電体として単結晶六方晶窒化ホウ素(h-BN)を有するダイヤモンドFETについて報告する。単結晶h-BNにおける低密度の荷電不純物により,適度に高いキャリア密度(>5×10~12cm-2)に対して,非常に高い移動度(>300cm~2V~-1s-1)を得た。得られた最小シート抵抗は例外的に低かった(<3kΩ)。著者らの結果は,単結晶h-BNとダイヤモンドから成るヘテロ構造が,高性能電子デバイスを製造するための優れたプラットフォームであることを示した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 

前のページに戻る