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J-GLOBAL ID：201902272197860235   整理番号：19A1942119

T形状フィルタ付アーク堆積システムを用いて調製した高硬度の水素フリーフッ素化DLC膜【JST・京大機械翻訳】

Hydrogen-free fluorinated DLC films with high hardness prepared by using T-shape filtered arc deposition system

著者 (13件)： Imai Takahiro (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan) ,  Harigai Toru (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan) ,  Tanimoto Tsuyoshi (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan) ,  Isono Ryo (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan) ,  Iijima Yushi (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan) ,  Suda Yoshiyuki (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan) ,  Takikawa Hirofumi (Department of Electrical and Electronic Information Engineering, Toyohashi University of Technology, Toyohashi, Aichi, 441-8580, Japan) ,  Kamiya Masao (Technology Development Department, Itoh Optical Industrial Co., Ltd., Gamagori, Aichi, 443-0041, Japan) ,  Taki Makoto (Research and Development Office, Onward Ceramic Coating Co., Ltd., Nomi, Ishikawa, 929-0111, Japan) ,  Hasegawa Yushi (Research and Development Office, Onward Ceramic Coating Co., Ltd., Nomi, Ishikawa, 929-0111, Japan) ,  Kaneko Satoru (Electronics Engineering Department, Kanagawa Institute of Industrial Science and Technology, Ebina, Kanagawa, 243-0435, Japan) ,  Kunitsugu Shinsuke (Department of Research and Development, Industrial Technology Center of Okayama Prefecture, Kita, Okayama, 701-1296, Japan) ,  Ito Mikio (Department of Chemical Science and Engineering, National Institute of Technology, Tokyo College, Hachioji, Tokyo, 193-0997, Japan)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 167  ページ： 536-541  発行年： 2019年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フッ素化ダイヤモンド状炭素(F-DLC)膜は良好な表面特性を有する。高い機械的硬度を有するDLC膜を,物理蒸着法であるフィルタードアーク蒸着を用いて調製した。本研究では,フルオロカーボンガスを導入しながら,フィルタ陰極アーク蒸着を用いたF-DLC膜の作製を行い,F-DLC膜の特性を調べた。F-DLC膜を,フルオロカーボンガスを導入しながら,T-形状フィルタリングアーク蒸着(T-FAD)システムを用いて,SiおよびWC基板上に蒸着した。この目的のために用いたフルオロカーボンガスは,C_3F_8,C_6F_14,またはC_7F_14であった。表面外観,膜構造,膜密度,ナノインデンテーション硬度,基板接着,水接触角などのF-DLC特性を調べた。作製したDLC膜の特性は以下の通りであった。フッ素含有量は0~22at%,膜密度は2.1~3.1g/cm3,ナノインデンテーション硬度は10~48GPa,弾性係数は140~360GPa,水接触角は66~95°の範囲であった。さらに,F-DLC膜はWC基板上に良好な接着強度を示した。高い機械的硬度と撥水性を有するF-DLC膜をT-FADを用いて得た。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： カソード ,  接着強さ ,  *フッ素化 ,  ケイ素 ,  表面性状 ,  基板 ,  ダイヤモンド状炭素 ,  弾性係数 ,  *DLC膜 ,  *アーク放電 ,  ナノインデンテーション ,  *フィルタ ,  *硬度 ,  接着 ,  脂肪族フッ素化合物

著者キーワード (5件)： ダイヤモンド状炭素 ,  フッ素化ダイヤモンド状炭素 ,  陰極アーク放電 ,  物理蒸着 ,  フィルム特性

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (8件)： T形状 ,  アーク ,  堆積システム ,  調製 ,  高硬度 ,  水素 ,  フッ素化 ,  DLC膜