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J-GLOBAL ID：201902274882065260   整理番号：19A0177430

二次元トポロジカル絶縁体:進歩と展望【JST・京大機械翻訳】

Two-Dimensional Topological Insulators: Progress and Prospects

著者 (5件)： Kou Liangzhi (School of Chemistry, Physics and Mechanical Engineering Faculty, Queensland University of Technology, QLD, Australia) ,  Ma Yandong (Wilhelm-Ostwald-Institut fuer Physikalische und Theoretische Chemie, Universitaet Leipzig, Germany) ,  Sun Ziqi (School of Chemistry, Physics and Mechanical Engineering Faculty, Queensland University of Technology, QLD, Australia) ,  Heine Thomas (Wilhelm-Ostwald-Institut fuer Physikalische und Theoretische Chemie, Universitaet Leipzig, Germany) ,  Chen Changfeng (Department of Physics and Astronomy, High Pressure Science and Engineering Center, University of Nevada, Nevada, United States)
資料名： Journal of Physical Chemistry Letters  (Journal of Physical Chemistry Letters)
巻： 8  号： 8  ページ： 1905-1919  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3687A  ISSN： 1948-7185  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二次元トポロジー絶縁体(2D TI)は,絶縁性内部を有するユニークな対称性保護螺旋状金属エッジ状態を示す原子的に薄い層状材料の顕著なクラスである。近年,量子物質のこの興味ある新しい状態の研究において大きなサージが見られている。この展望において,2D TI研究における材料発見と特性評価の最新の開発における主要なmil石と最も顕著な進歩を要約する。トポロジー相転移の異なる機構に基づいて理論的に提案された2D TIの多数と豊富な多様性を分類し,それらの構造的,化学的,物理的特性を系統的に解析し比較した。2D TIの実験的合成と潜在的デバイス応用の現状と課題を評価し,この魅力的な材料クラスの将来の研究と開発のための新しい機会を刺激する展望を論じた。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 積層材料 ,  相転移 ,  *二次元 ,  キャラクタリゼーション ,  対称性 ,  位相幾何学 ,  *トポロジカル絶縁体
準シソーラス用語： エッジ状態 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 絶縁体結晶の電子構造  (BM02070Y)

タイトルに関連する用語 (2件)： トポロジカル絶縁体 ,  展望