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J-GLOBAL ID：201902276383665662   整理番号：19A0890942

水素をドープした高圧キセノンにおける電子移動度と縦拡散係数の測定

Measurements of electron mobility and longitudinal diffusion coefficient in high pressure xenon doped with hydrogen

著者 (5件)： KUSANO Hiroki (Japan Aerospace Exploration Agency, Kanagawa, JPN) ,  KUSANO Hiroki (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  MIYAJIMA Mitsuhiro (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  HASEBE Nobuyuki (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  DMITRENKO Valery V. (Moscow Engineering Physics Inst. (MEPhI), Moscow, RUS)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58  号： 3  ページ： 038001.1-038001.3  発行年： 2019年03月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1.0MPaの圧力と0.1%,0.21%,0.42%のH₂濃度で水素をドープした高圧キセノン中で,電子移動度と縦方向拡散係数を測定した。密度正規化縦拡散係数は,H₂濃度の増加と共に,Xe+H₂ガス混合物中で増加することが分かった。しかし,縦方向拡散の大きさの変化は,H₂ガスのドーピングにより顕著ではなかった。ガス混合物中の電子輸送パラメータに対するスケーリング則は,高い還元電場に対する移動度と縦方向拡散係数に適用できる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *水素 ,  *ドーピング ,  *キセノン ,  高圧気体 ,  *キャリア移動度 ,  拡散係数 ,  濃度 ,  混合気体 ,  輸送現象 ,  スケール則
準シソーラス用語： *電子移動度 ,  水素濃度 ,  混合ガス ,  電子輸送 ,  スケーリング則

分類 (1件)： 気体の輸送現象  (BJ01022N)

引用文献 (22件)：

• S. Kobayashi et al., Adv. Space Res. 37, 28 (2006).
• M. Mimura, H. Kusano, S. Kobayashi, M. Miyajima, and N. Hasebe, J. Phys. Soc. Jpn. 78, 157 (2009).
• S. R. Hunter, J. G. Carter, and L. G. Christophorou, Phys. Rev. A 38, 5539 (1988).
• T. Hashimoto and Y. Nakamura, Papers of IEEJ Gas Discharge Technical Committee ED-90-61 (1990) [in Japanese].
• T. Koizumi, E. Shirakawa, and I. Ogawa, J. Phys. B 19, 2331 (1986).

タイトルに関連する用語 (7件)： 水素 ,  ドープ ,  高圧 ,  キセノン ,  電子移動度 ,  縦 ,  拡散係数