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J-GLOBAL ID:201902276742774168   整理番号:19A0511437

ワニス100mmウエハ上に高度に均一な特性を持つ超伝導NbTiN薄膜【JST・京大機械翻訳】

Superconducting NbTin Thin Films With Highly Uniform Properties Over a ${¥varnothing}$ 100 mm Wafer
著者 (6件):
資料名:
巻: 27  号:ページ: 1-5  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0177A  ISSN: 1051-8223  CODEN: ITASE9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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超伝導ニオブ窒化チタン(NbTiN)薄膜の厚さと電子特性の均一性は,サブミリ波天文学のためのマイクロ波速度論的インダクタンス検出器のような,超伝導エレクトロニクスのアップスケーリングのための重要な問題である。本論文では,非常に異なるターゲットサイズを持つ2つのDCマグネトロンスパッタリングシステムにより作製したNbTiN薄膜の均一性の実験的比較を行った。すなわち,円形の100mmターゲットを装備したNordiko2000と,127mm×444.5mmの矩形ターゲットを持つEvans LLS801である。両系に静的に堆積させた膜に加えて,LLS801に膜を堆積させたが,ターゲットの前に基板を往復させ,均一性をさらに高めることを目的とした。これらの3つの装置の中で,基板シャットリングを有するLLS801システムは,膜厚(±2%),有効抵抗率(中心から端への5%の減少)および超伝導臨界温度(T_c=15.0K~15.3K)において,100mmウエハ上で最も高い均一性をもたらした。しかし,シャトルは静的堆積に比べて2倍の抵抗率を増加させるように見える。表面SEM検査は,シャトルが微細構造膜成長の異なるモードを誘起できることを示唆した。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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