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J-GLOBAL ID:201902277243244362   整理番号:19A0660941

非同心特徴の作製のための斜めコロイドリソグラフィー【JST・京大機械翻訳】

Oblique Colloidal Lithography for the Fabrication of Nonconcentric Features
著者 (9件):
資料名:
巻: 11  号:ページ: 6594-6604  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2326A  ISSN: 1936-0851  CODEN: ANCAC3  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ここでは,斜めコロイドリソグラフィー(OCL)の開発について述べ,ナノサイズの非同心プラズモン構造のライブラリを作成するための系統的なパターン形成戦略を確立した。この戦略は,OCL,毛管力リソグラフィー,およびいくつかの湿式およびイオンエッチングステップを組み合わせている。高度に制御可能な幾何学的パラメータを有するガラス基板上に,非同心性の金の特徴の六方晶アレイを作製した。実験条件を制御することにより,金の特徴のサイズ,形状,および偏心を独立に調整できた。表面元素内のギャップは30nm程度まで縮小できたが,全パターン化面積は約1cm2であった。目的は,電子線リソグラフィーに頼る必要のない非対称構造の分解能と形態に関する高度の制御を提供する方法を考案することであった。この技術により,分離素子の段階的作製による多数の表面パターンの開発も可能になった。ドットに囲まれた非同心ターゲット,非同心六角形ディスク,および非同心環状開口アレイを含む複雑な特徴を実証し,それらの光学的性質を特性化した。実際,分光学的研究とFDTDシミュレーションは,Fano共鳴が非同心性の金の特徴によって容易に発生できることを示した。結果として,パターン形成戦略は,ナノパターンアレイ内の要素の物理的パラメータの関数として,プラズモン結合とFano共鳴のハイスループット研究を可能にする。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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