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J-GLOBAL ID：201902278471017578   整理番号：19A1375085

ミストCVDにおける薄膜成長メカニズム

著者 (13件)： 川原村敏幸 (高知工科大) ,  川原村敏幸 (高知工大 総研) ,  西美咲 (高知工科大) ,  LIU Li (高知工科大) ,  坂本雅仁 (高知工科大) ,  RUTTHONGJAN Phimolphan (高知工科大) ,  佐藤翔太 (高知工科大) ,  上田真理子 (高知工科大) ,  安岡達也 (高知工科大) ,  長谷川諒 (高知工科大) ,  田頭侑貴 (高知工科大) ,  尾崎珠子 (高知工科大) ,  DANG Giang T. (高知工科大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 66th  ページ： ROMBUNNO.10p-W241-7  発行年： 2019年02月25日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： -背景-これからの社会に関して必要な社会的要素を見据えると、世界的な安心・安全な生活環境の確立と、超高...【本文一部表示】

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  ミスト ,  *薄膜成長 ,  *機構 ,  薄膜 ,  *ミストCVD ,  ZnOフィルム
準シソーラス用語： ZnO薄膜 ,  *成長機構

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (3件)： ミストCVD ,  薄膜成長 ,  メカニズム