文献

J-GLOBAL ID：201902281460126798   整理番号：19A1415724

低堆積速度RFスパッタリングにより成長させたBiFeO_3薄膜の磁気モーメントの起源における寄生相【JST・京大機械翻訳】

Parasitic phases at the origin of magnetic moment in BiFeO₃ thin films grown by low deposition rate RF sputtering

著者 (5件)： Mori Thiago J. A. (Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil) ,  Mouls Caroline L. (Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil) ,  Morgado Felipe F. (Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil) ,  Schio Pedro (Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil) ,  Cezar Julio C. (Laboratorio Nacional de Luz Sincrotron, Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais, Campinas, SP 13083-970, Brazil)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 122  号： 12  ページ： 124102-124102-5  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一連のエピタキシャルBiFeO_3薄膜を純粋なO_2雰囲気中で高い分圧の下で成長させて,それは低い堆積速度をもたらした。これらの条件下で成長させた試料は,堆積温度が上昇するにつれてエピタクシーの品質が変化するが,高温で成長させた膜中には擬β-Bi_2O_3と超正方晶BiFeO_3相が存在する。γ-Fe_2O_3の存在は一つの成長条件で報告され,ヒステリシス強磁性挙動の起源に起因している。より高い磁気モーメントと非ヒステリシス挙動を有する第2種の磁性は,BiFeO_3の混合相の存在に起因する。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 強磁性 ,  磁性 ,  分圧 ,  *薄膜 ,  *磁気モーメント ,  ヒステリシス ,  *堆積速度 ,  *RFスパッタリング ,  品質 ,  エピタクシー ,  正方晶系 ,  高温
準シソーラス用語： 混合相 ,  成長条件 ,  三相 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 堆積速度 ,  RFスパッタリング ,  成長 ,  薄膜 ,  磁気モーメント ,  起源 ,  寄生