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J-GLOBAL ID:201902281969472442   整理番号:19A0185967

炭素薄膜のプラズマCVDのためのパルスDC放電【JST・京大機械翻訳】

Pulsed-DC Discharge for Plasma CVD of Carbon Thin Films
著者 (3件):
資料名:
巻: 47  号:ページ: 22-31  発行年: 2019年 
JST資料番号: D0036B  ISSN: 0093-3813  CODEN: ITPSBD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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プラズマ化学蒸着(CVD)のためのパルスdc放電法を,構築した汎用パルスdc発生器と真空放電チャンバを用いて開発した。種々の放電条件下でArgon(Ar)ガス放電実験を行い,プラズマ条件を発光分光法を用いて評価した。開発したシステムは,電圧振幅とセット放電電流,パルス繰返し速度,デューティサイクルの広い変動を持つほぼ矩形,単極,高電圧の負パルスを用いてグロー放電を行うことができる。プラズマ条件はパルスパラメータを変えることにより調整できた。シリコン(Si)基板上へのダイヤモンド状炭素(DLC)膜の堆積とナノ厚金属触媒ガラス基板上の極薄熱分解炭素(PyC)膜の予備試験を,ガス放電実験に基づくいくつかの典型的な堆積条件を選択することによりアセチレン(C_2H_2)を用いて行った。蒸着膜をRaman分光法により特性化した。DLCとPyC膜の特性を達成した。DLC膜は従来の硬い絶縁特性を示したが,極薄PyC膜は導電性と半透明性を示した。これらの結果は,プラズマCVDのための開発されたパルスdc放電システムが,絶縁性ハードおよびソフト導電性炭素薄膜の合成に適用できることを明らかにした。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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プラズマ応用  ,  その他の無機化合物の薄膜 
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