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J-GLOBAL ID：201902283360889634   整理番号：19A1566020

共晶Si結晶成長を調節するためのSi双晶とAl-Si-X金属間化合物の間の界面形態

Interfacial Morphologies between Si Twinnings and Al-Si-X Intermetallics for Tailoring Eutectic Si Crystal Growth

著者 (4件)： YAMAMOTO Yosuke (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIYA Masato (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIYA Masato (Japan Fine Ceramics Center, Nagoya, JPN) ,  YASUDA Hideyuki (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： AMTC Letters  (AMTC Letters)
巻： 6  ページ： 266-267  発行年： 2019年06月 
JST資料番号： L7013A  ISSN： 1882-9465  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： アルミニウム合金 ,  ケイ素含有合金 ,  カルシウム含有合金 ,  ストロンチウム含有合金 ,  バリウム含有合金 ,  ユウロピウム含有合金 ,  イットリウム含有合金 ,  イッテルビウム含有合金 ,  金属間化合物 ,  共晶 ,  *界面 ,  双晶 ,  数値解析 ,  計算 ,  *結晶成長
準シソーラス用語： 第一原理計算

分類 (1件)： 金属の結晶成長  (BK13030M)

タイトルに関連する用語 (10件)： 共晶 ,  Si結晶 ,  成長 ,  調節 ,  Si ,  双晶 ,  Al ,  金属間化合物 ,  界面 ,  形態