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J-GLOBAL ID:201902284631326389   整理番号:19A0660866

トポロジカル絶縁体におけるパターン形成超伝導【JST・京大機械翻訳】

Patterning Superconductivity in a Topological Insulator
著者 (10件):
資料名:
巻: 11  号:ページ: 5873-5878  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2326A  ISSN: 1936-0851  CODEN: ANCAC3  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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超伝導と組み合わせたトポロジー的に保護された状態は,量子計算応用に対して大きな有望性を持つが,このような系における電気輸送測定の進歩は,信頼できる電気接点を有するデバイスの作製の困難さによって妨げられてきた。超伝導はパラジウムによる局所ドーピングによりBi_2Se_3ナノ構造に直接パターン化できることを見出した。超伝導領域は,電子線リソグラフィーとそれに続くその場アニーリングを用いて,ナノ構造の上部にパラジウムを堆積させることによって定義される。低温での電気輸送測定は,ドーピング条件に依存して,部分的または完全な超伝導転移を示した。構造特性化技術は,パラジウムがターゲット領域に局在することを示し,このトポロジー材料における任意形状の超伝導回路をパターン形成することを可能にした。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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その他の無機化合物の薄膜  ,  金属系超伝導体の物性 
タイトルに関連する用語 (3件):
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