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J-GLOBAL ID:201902287048958996   整理番号:19A1415802

p型GaNナノワイヤのドーピング過程:第一原理研究【JST・京大機械翻訳】

Doping process of p-type GaN nanowires: A first principle study
著者 (4件):
資料名:
巻: 122  号: 13  ページ: 135102-135102-8  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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GaNナノワイヤのp型ドーピングの過程を第一原理から出発する計算を用いて調べた。異なるドーピング元素,サイト,タイプおよび濃度の影響を検討した。結果は,Mgがそのより強い安定性のためにBeとZnに比べて最適なドーパントであるが,Be原子はナノワイヤの空間に存在する傾向があることを示唆する。相互にドープしたGaNナノワイヤは顕著なn型伝導率を示し,Beは適当なドーパントではなく,内部置換ドーパントを持つ系は表面置換を持つ系よりも好ましいと期待される。格子間と置換ドーピングの両方がドーパント近傍の原子構造に影響し,ドーパントと隣接原子間の電荷移動を誘起する。ドーピングサイトと濃度を変えることにより,ナノワイヤ原子構造はほぼ一定のままである。置換ドーピングモデルはp型伝導率を示し,ドーピング濃度4%のMgドープナノワイヤは最も強いp型伝導率を示した。全てのドーピング配置は直接バンドギャップ半導体である。本研究は,高品質GaNナノワイヤの調製を指示することが期待される。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
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半導体結晶の電気伝導  ,  半導体の格子欠陥  ,  半導体薄膜 

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