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J-GLOBAL ID：201902289781603541   整理番号：19A1522631

強いフェムト秒レーザパルスによるシリコン上の表面プラズモンポラリトンの減衰

Reduced damping of surface plasmon polaritons on silicon with intense femtosecond laser pulse

著者 (2件)： MIYAJI Godai (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN) ,  HAGIYA Masato (Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 58  号： 5  ページ： 050916.1-050916.4  発行年： 2019年05月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 強いp偏光100フェムト秒レーザパルスを用いて,シリコン格子の反射率を入射角の関数として空気中で測定した。角度依存反射率は,格子上に誘起された表面プラズモン共鳴(SPR)を表す特定の入射角で鋭いディップを生成するために急激に減少することが観測された。ディップの鮮鋭度はレーザフルエンスの増加と共に増加することが分かった。実験結果は,レーザフルエンスの増加が表面における自由電子のより高い密度を生成し,SPRを増強するためにプラズモン減衰を減少させることを示した。計算した反射率は,シリコン格子表面における電子密度の増加とともに,ディップ鮮鋭度の増加を良く再現した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： フェムト秒レーザ ,  *パルスレーザ照射 ,  *ケイ素 ,  半導体 ,  表面プラズモン ,  *ポラリトン ,  偏光 ,  角度依存性 ,  反射率 ,  フルエンス ,  電子密度 ,  プラズマ共鳴 ,  表面プラズモン共鳴法
準シソーラス用語： レーザフルエンス ,  *表面プラズモンポラリトン ,  SPR【共鳴】

分類 (2件)： 固体プラズマ  (BM02160W) ,  ポラリトン  (BM02140A)

引用文献 (49件)：

• A. Hessel and A. A. Oliner, Appl. Opt. 4, 1275 (1965).
• D. Maystre, in Plasmonics, ed. S. Enoch and N. Bonod, (Springer, Berlin, 2012), Chap. 2.
• B. Liedberg, C. Nylander, and I. Lunström, Sens. Actuators 4, 299 (1983).
• D. C. Cullen, R. G. W. Brown, and C. R. Lowe, Biosensors 3, 211 (1987).
• D. L. Jeanmaire and R. P. van Duyne, J. Eletroanal. Chem. 84, 1 (1977).

タイトルに関連する用語 (4件)： フェムト秒レーザパルス ,  シリコン ,  表面プラズモンポラリトン ,  減衰